【技术实现步骤摘要】
图像传感器及其像素单元
本技术涉及集成电路领域,特别是涉及图像传感器及其像素单元。
技术介绍
本部分的陈述仅仅是提到了与本技术相关的
技术介绍
,并不必然构成现有技术。现有X射线探测一般采用间接探测的形式,通过前端闪烁体将X射线转换为可见光子,然后由图像传感器进行探测。由于前端闪烁体的转换效率约为80%,这种间接探测方式会损失一部分X射线,导致探测效率较低,探测器的灵敏度降低。
技术实现思路
为了解决现有技术的不足,本技术提供了图像传感器及其像素单元;第一方面,本技术提供了图像传感器的像素单元;图像传感器的像素单元,包括:P型衬底;所述P型衬底上设有P型外延层;所述P型外延层上设有第一P阱,所述第一P阱上设有若干个N型有源区;所述P型外延层上设有N阱,所述N阱上设有N型有源区;所述P型外延层上设有第二P阱,所述第二P阱上设有P型有源区;所述第一P阱与N阱连接,所述N阱与第二P阱连接;所述P型外延层的厚度为15微米至30微米。第二方面,本技 ...
【技术保护点】
1.图像传感器的像素单元,其特征是,包括:P型衬底;/n所述P型衬底上设有P型外延层;/n所述P型外延层上设有第一P阱,所述第一P阱上设有若干个N型有源区;/n所述P型外延层上设有N阱,所述N阱上设有N型有源区;/n所述P型外延层上设有第二P阱,所述第二P阱上设有P型有源区;/n所述第一P阱与N阱连接,所述N阱与第二P阱连接;/n所述P型外延层的厚度为15微米至30微米。/n
【技术特征摘要】
1.图像传感器的像素单元,其特征是,包括:P型衬底;
所述P型衬底上设有P型外延层;
所述P型外延层上设有第一P阱,所述第一P阱上设有若干个N型有源区;
所述P型外延层上设有N阱,所述N阱上设有N型有源区;
所述P型外延层上设有第二P阱,所述第二P阱上设有P型有源区;
所述第一P阱与N阱连接,所述N阱与第二P阱连接;
所述P型外延层的厚度为15微米至30微米。
2.如权利要求1所述的像素单元,其特征是,所述P型外延层电阻率为1000至10000欧姆每微米。
3.图像传感器,其特征是,包括:多个如权利要求1所述的像素单元,多个像素单元组成像素阵列,所述像素阵列分别与列级读出电路、时序控制电路和偏置电路连接,所述列级读出电路与数据缓冲器和时序控制电路连接,所述数据缓冲器分别与地址译码器、接口配置单元、时钟产生电路、时序控制电路和偏置电路连接;所述地址译码器分别与时序控制电路、...
【专利技术属性】
技术研发人员:张亮,王萌,董家宁,王安庆,
申请(专利权)人:山东大学,
类型:新型
国别省市:山东;37
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