一种真空蒸发镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种真空蒸发镀膜设备，其中膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)挡闭。整个供料过程仅需供料器相对于供料座移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。

【技术实现步骤摘要】
一种真空蒸发镀膜设备
本技术属于镀膜
，具体涉及一种真空蒸发镀膜设备。
技术介绍
真空蒸发镀膜是真空镀膜技术中开发时间最早，应用领域最广的一种薄膜沉积方法，近年来随着长寿命电阻蒸发源、电子束蒸发源、激光束蒸发源等在真空蒸发镀膜技术中的应用，使这一技术的发展更趋完善，目前仍然在真空镀膜技术中占有相当重要的地位。真空蒸发镀膜设备主要包括真空镀膜室内的工件架、蒸发源和加热源，工件架用于安装待镀膜工件，蒸发源用于盛放膜料，加热源对蒸发源加热，促使蒸发源内的膜料粒子逸出，并在气相中迁移，最终到达工件表面上凝结而生成薄膜。在镀膜工艺中，当蒸发源中的膜料消耗殆尽时，或当需要在同一工件表面蒸镀不同材料薄膜时，都会面临为蒸发源供给膜料，现有真空蒸发镀膜设备中，供给膜料需打开真空镀膜室的舱门进行，待供给膜料完毕关闭舱门后，对真空镀膜室重新抽真空，供给膜料的整套步骤繁琐，耗费工时，降低了整个镀膜工艺效率。
技术实现思路
因此，本技术的目的在于克服现有技术存在的不足，而提供一种能够提高膜料供给效率的真空蒸发镀膜设备。本技术的目的是通过如下本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空蒸发镀膜设备，包括真空镀膜室(1)、工件架、蒸发源(2)、加热源和膜料供给机构，所述工件架、蒸发源(2)、加热源和膜料供给机构设置在所述真空镀膜室(1)内，所述工件架用于安装待镀膜工件，所述蒸发源(2)用于盛放膜料，所述加热源用于对所述蒸发源(2)加热从而使所述蒸发源(2)内的所述膜料蒸发，其特征在于：所述膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器...

【技术特征摘要】
1.一种真空蒸发镀膜设备，包括真空镀膜室(1)、工件架、蒸发源(2)、加热源和膜料供给机构，所述工件架、蒸发源(2)、加热源和膜料供给机构设置在所述真空镀膜室(1)内，所述工件架用于安装待镀膜工件，所述蒸发源(2)用于盛放膜料，所述加热源用于对所述蒸发源(2)加热从而使所述蒸发源(2)内的所述膜料蒸发，其特征在于：所述膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)挡闭。


2.如权利要求1所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料器(41)和/或所述供料座(31)上设置有第一密封结构，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器(41)和供料座(31)之间形成第一密封。


3.如权利要求1所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料座(31)与所述壁部之间设置有第二密封结构，以适于在所述供料座(31)与所述壁部之间形成第二密封。


4.如权利要求1-3中任一项所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料座(31)呈套筒状，所述供料器(41)呈杆状并穿设于所述套筒状的供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)线性移动，以使在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫海涛，
申请(专利权)人：布勒莱宝光学设备北京有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11