坩埚装置及具有其的蒸镀机制造方法及图纸

本实用新型专利技术揭示了一种坩埚装置及具有其的蒸镀机。坩埚装置包括坩埚，坩埚上设置有反应容器；坩埚装置还包括：旋转台，旋转台上设置有复数个原料容器，旋转台可绕其中心轴为转轴旋转，复数个原料容器围绕旋转台的中心轴圆周分布，原料容器上设置有补料口；上料机构，上料机构包括上料通道，上料通道的一端可选择地与补料口配合，上料通道的另一端与反应容器连通。蒸镀机包括蒸镀腔、设置于蒸镀腔内的电子枪和坩埚装置。本实用新型专利技术通过上料机构将旋转台上的原料引入反应容器内，使补充原料操作简单，提升了工作效率，补充原料时不需要打开蒸镀腔，进一步提升了补充原料的便捷程度，而且本实用新型专利技术可以向反应容器内填充不同材质的原料。

【技术实现步骤摘要】
坩埚装置及具有其的蒸镀机
本技术涉及芯片制造设备，特别涉及一种坩埚装置及具有其的蒸镀机。
技术介绍
在LED芯片的制作过程中，需要通过蒸镀机将材料熔融形成蒸汽，然后将蒸汽镀在半导体基片上。蒸镀机包括蒸镀腔以及设置于蒸镀腔内的坩埚和电子枪，坩埚上设置有反应腔，反应腔内盛放有原料，电子枪产生的电子束加热反应腔内的原料，使原料变成蒸汽。当原料不断损耗时，需要向反应腔内补充原料。由于在蒸镀过程中蒸镀腔是密闭的，当向反应腔内补充原料时，必须要停止蒸镀反应，然后将蒸镀腔打开，再向反应腔内倒入原料。因此，补充原料的操作复杂，同时由于坩埚的温度高，在向反应腔倒入原料的过程中存在安全风险，容易烫伤操作者。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种补料方便的坩埚装置及具有其的蒸镀机。为实现上述技术目的之一，本技术一实施方式提供一种坩埚装置，包括坩埚，所述坩埚上设置有反应容器；所述坩埚装置还包括：旋转台，所述旋转台上设置有复数个原料容器，所述旋转台可绕其中心轴为转轴旋转，复数个所述原料容器围绕所述旋转台的中心轴圆周分布，所述原料本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种坩埚装置，包括坩埚，所述坩埚上设置有反应容器；/n其特征在于，所述坩埚装置还包括：/n旋转台，所述旋转台上设置有复数个原料容器，所述旋转台可绕其中心轴为转轴旋转，复数个所述原料容器围绕所述旋转台的中心轴圆周分布，所述原料容器上设置有补料口；/n上料机构，所述上料机构包括上料通道，所述上料通道的一端可选择地与所述补料口配合，所述上料通道的另一端与所述反应容器连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种坩埚装置，包括坩埚，所述坩埚上设置有反应容器；
其特征在于，所述坩埚装置还包括：
旋转台，所述旋转台上设置有复数个原料容器，所述旋转台可绕其中心轴为转轴旋转，复数个所述原料容器围绕所述旋转台的中心轴圆周分布，所述原料容器上设置有补料口；
上料机构，所述上料机构包括上料通道，所述上料通道的一端可选择地与所述补料口配合，所述上料通道的另一端与所述反应容器连通。


2.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，所述原料容器内设置有推料件，所述推料件与所述原料容器内壁相贴，所述推料件可在所述原料容器内靠近或远离所述补料口移动。


3.根据权利要求2所述的坩埚装置，其特征在于，所述坩埚装置还包括推料驱动组件，所述推料驱动组件包括活动块，所述原料容器在所述推料件活动方向的一侧设置有开口，所述活动块可穿过所述开口并可靠近或远离所述补料口移动。


4.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，所述上料机构包括上组装件和下组装件，所述上组装件和下组装件可拆卸式连接。


5.根据权利要求4所述的坩埚装置，其特征在于，所述上组装件的底部设有上槽，所述下组装件的顶部设有下槽，所述上槽和所述下槽相对应，所述上槽和下槽配合形成所述上料通道。

【专利技术属性】
技术研发人员：许康，
申请(专利权)人：聚灿光电科技宿迁有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32