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本实用新型提供一种真空蒸发镀膜设备，其中膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述...
该专利属于布勒莱宝光学设备(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过布勒莱宝光学设备(北京)有限公司授权不得商用。

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