【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学机构水平调整方法及其装置，其特别是提供一待 测样品水平面测度，用以达到光学机构的调校。
技术介绍
在已知白光干涉分析仪测量微小表面形貌的技术中，大都需要透过 将待测样品进行水平调校，藉以提升测量的准确度并缩短扫描范围，而 有益于测量速度与准确度的增进，使得这类的白光干涉分析仪测量技术 可解析表面形貌至奈米等级。然而，这类已知白光干涉分析仪测量技术，其中的一种待测样品水 平调校方式，是使用手动方式调整承载该待测样品的载台的倾斜角度， 并辅以观测待测样品表面干涉条紋的粗细以及条紋倾斜角度，来回调整 该载台的倾斜角度，直到干涉条紋消失为止，则表示此白光干涉分析仪 的光轴垂直该待测样品的表面。其中，若光轴与该待测样品的载台旋转 中心不一致时，需同时调整该载台的倾斜角度与高度，而这样的待测样 品调平方式应用在高倍率物镜的光学系统时，往往会因为高度调整过大 而造成失焦。因此，这样的待测样品调平方式不但调平的准确度会因人 而异，且其操作的时间也相当长。再者，这样的待测样品调平方式如果使用在多视野扫描缝合(Multi-FOV)中，往往会因为一小角度的误差...
【技术保护点】
一种光学机构水平调整方法，其特征在于包括下列步骤： 提供运算控制单元、影像撷取装置以及粗略高度传感器； 将待测物件放置在物件承载装置的物件平台上； 在该待测物件的待测平面上的视野范围中定义至少三个待测点，并透过该运算控制单元、该影像撷取装置以及该粗略高度传感器获得该些待测点的水平坐标参数以及高度坐标参数； 该运算控制单元根据该些待测点的坐标参数进行，并演算该待测物件的待测平面的平面方程式，且该平面方程式表示为ａｘ＋ｂｙ＋ｃｚ＝ｄ，其中该ｘ轴位置参数与ｙ轴位置参数分别定义为水平面上两个正交方向上的位置参数，该ｚ轴位置参数则是垂直方向上的位置参数； 该运算控制单元控制该物件承载...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林耀明，
申请(专利权)人：中茂电子深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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