一种标准具及其制作方法技术

本发明专利技术的一种标准具及其制作方法涉及光学领域，尤其涉及标准具领域。本发明专利技术采用镀膜与深化光胶、光胶结合制作超薄膜实心与空腔标准具。本发明专利技术在一片标准具腔片部分反射或高反膜上直接镀一定厚度的光学介质后，再与另一片标准具腔片膜层光胶或深化光胶构成实心标准具，或采用遮掩或光刻方法使标准具腔片膜面非中心区域再镀有一层均匀介质膜后再相互光胶或深化光胶构成中心为空气隙的超薄标准具。本发明专利技术采用如上技术方案，公开了一种新型的标准具。这种标准具厚度很小，可达到几个ｕｍ的量级，通过光胶或深化光胶的方法粘结在一起，制作较方便。而且这种超薄标准具的自由光谱范围较大，适用于激光选模等方面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学领域，尤其涉及标准具领域。 ,狄^标准具是通过在平板的两个表面镀金属膜或多层电介质反射膜来实现多光 束干涉的，利用多光束干涉原理产生十分细锐条紋，可选择特定波长的光束以 高透射率通过标准具，而其他波长则基本完全损耗。标准具的制作，要求两块 板间的距离不变并严格平行。其光路原理图如图l所示，简单分析可得出，每条光线的位相比前一条光线落后5 = ^AL = ^"^C0W;因此透射光线的复振A) A幅是一个等比级数，公比为i V、因此可以得到透射率为r= 4"in，/2) 可见其透射率是波长;t。、厚度h、反射率R的函数。(卜i ) +4i sin2(5/2)常见标准具如图2所示图2(a)中，101为实心标准具，sl， s2为标准具反射膜；图2(b)中102、 103为有反射膜的标准具腔片，104为标准具支撑架。图2 (a)中di尺寸一般较大，同样图2 (b)中(12亦较厚。但很多时候需要较大自由光谱范围时，则需山、d2很薄。当山、(M艮薄时，这两种结构在实际制作中就很难制作。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术公开一种新型的超薄标准具，并公开其制作方法。本专利技术是采用如下技术方案本专利技术的标准具，包括第一基片，其上镀有特定波长反射膜；光学介质薄层，其镀于所述的第一基片的镀膜面；第二基片，其上镀有特定波长反射膜，镀膜面并通过光胶或深化光胶胶合 于所述的光学介质薄层。若所述的光学介质薄层是完整的薄层面，则构成实心标准具。若所述的光学介质薄层是中心区域缺失的薄层面，则构成空腔标准具。进一步的，所述的光学介质薄层的厚度是微米量级；所述的光学介质薄层 的材料是S i 02或其他均匀光学介质。进一步的，所述的空腔标准具中心区域缺失的空隙内为空气或真空或特定 气体。所述的两种标准具的基片非镀膜的外通光面形成一个小楔角，所述的楔角范围约为r -io'。或者，所述的标准具的基片非镀膜的外通光面镀增透膜。 用以为防止表面反射光的干扰。制作所述实心标准具的方法，步骤如下步骤l:先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜；步骤2:将经过步骤1后的一基片的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层；步骤3:将所述的光学介质薄层与经过步骤1后的另一基片通过光胶或深化光胶 胶合。制作所述空腔标准具的方法，步骤如下 步骤l:先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜； 步骤2:在镀膜的基片膜表面中心区域垫一块基底； 步骤3:将经过步骤2后的一基片的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层； 步骤4:除去基片膜表面中心区域的基底；步骤5:将所述的光学介质薄层与经过步骤1后的另一基片通过光胶或深化光胶 胶合。制作所述空腔标准具的另一种方法，步骤如下 步骤l:先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜； 步骤2:将经过步骤1后的一基片的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层； 步骤3:将基片膜表面中心区域通过光刻方式除去；步骤4:将所述的光学介质薄层与经过步骤1后的另一基片通过光胶或深化光胶 胶合。本专利技术采用如上技术方案，公开了一种新型的标准具。这种标准具厚度很 小，可达到几个um的量级，通过光胶或深化光胶的方法粘结在一起，制作较方 便。而且这种超薄标准具的自由光谱范围较大，适用于激光选模等方面。 附图说明图l是多光束干涉示意图； 图2(a)是常见实心标准具结构示意图； 图2(b)是常见空腔标准具结构示意图； 图3是本专利技术的标准具理论透射曲线； 图4是本专利技术的实心标准具结构示意图； 图5是本专利技术的空腔标准具结构示意图。 具体实施例方式现结合附图说明和具体实施方式对本专利技术进一步说明。 本专利技术的标准具，包括第一基片，其上镀有特定波长反射或部分反射膜；光学介质薄层，其镀于所述的第一基片的镀膜面，根据所设计标准具的厚度决定该光学介质镀层厚度； 第二基片，其上镀有特定波长反射或部分反射膜，镀膜面通过光胶或深化光胶 胶合于所述的光学介质薄层。若所述的光学介质薄层是完整的薄层面，则构成实心标准具。若所述的光学介质薄层是中心区域缺失的薄层面，则构成空腔标准具。所述的基片的材料是K9玻璃或其他光学材料。所述的光学介质薄层的厚度是微米量级；所述的光学介质薄层的材料是Si02或其他均匀光学介质。这种标准具厚度很小，可达到几个jum的量级，通过光胶或深化光胶的方法 粘结在一起，制作较方便。而且这种超薄标准具的自由光谱范围较大，适用于 激光选模等方面。举例说明，若实心标准具的材料是熔石英，折射率为常数11=1. 45843,波长 入-1112nm,高反膜对入的反射率R-80y。，厚度h=5um，标准具的透射率T。如图3所示，膜内倾角为^' = 7.634。时，T1112=99. 999%。而且可以看出，自由光谱范围约1204nm-1112nm=92nm。如图4所示是本专利技术的实心标准具，其中401、 403为表面镀部分反射膜或 高反膜的K9或其他材料的基片；402为Si02或其他光学材料的超薄膜层，通过 镀膜形成。制作所述实心标准具的方法，步骤如下 步骤l:先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜； 步骤2:将经过步骤1后的一基片401的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层402;步骤3:将所述的光学介质薄层402与经过步骤1后的另一基片403通过光胶或 深化光胶胶合。如图5所示是本专利技术的空腔标准具，其中501和503为表面镀膜的K9或其他材料的基片，与图4所示的实心标准具不同之处在于，第一基片501和第二 基片503通过超薄膜层相隔，形成空气隙标准具。这种标准具的优点是由于 是空气隙标准具，空气对各个波长的折射率基本相同，都接近于l,因此基本消 除了色散的影响。空气隙标准具，亦可以制作成真空或充特定气体的标准具。制作所述空腔标准具的方法，步骤如下 步骤l:先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜； 步骤2:在镀膜的基片501膜表面中心区域垫一块基底；步骤3:将经过步骤2后的一基片501的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层502; 步骤4:除去基片膜表面中心区域的基底；步骤5:将所述的光学介质薄层502与经过步骤1后的另一基片503通过光胶或 深化光胶胶合。制作所述空腔标准具的另一种方法，步骤如下 步骤l:先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜； 步骤2:将经过步骤1后的一基片501的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层502; 步骤3:将基片膜表面中心区域通过光刻方式除去；步骤4:将所述的光学介质薄层502与经过步骤1后的另一基片501通过光胶或 深化光胶胶合。尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本专利技术，但所属领域的技术人员 应该明白，在不脱离所附权利要求书所限定的本专利技术的精神和范围内，在形式 上和细节上可以对本专利技术做出各种变化，均为本专利技术的保护范围。权利要求1. 一种标准具，其特征在于包括第一基片，其上镀有特定波长反射膜；光学介质薄层，其镀于所述的第一基片的镀膜面；第二基片，其上镀有特定波长反射膜，镀膜面通过光胶或深化光胶胶合于所述的光学介质薄层。2. 如权利要求1所述的标准具，其特征在于所述的光学介质薄层是完整的薄 层面，构成实心标准具。3. 如权利要求1所述的标准具，其特征在于所述的光学介质薄层是中心区域 缺失的薄本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种标准具，其特征在于：包括　第一基片，其上镀有特定波长反射膜；　光学介质薄层，其镀于所述的第一基片的镀膜面；　第二基片，其上镀有特定波长反射膜，镀膜面通过光胶或深化光胶胶合于所述的光学介质薄层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈卫民，黄顺宁，凌吉武，邱英，吴砺，杨建阳，
申请(专利权)人：福州高意通讯有限公司，
类型：发明
国别省市：35[中国|福建]