一种薄片或超薄片标准具制作方法技术

本发明专利技术涉及激光制作领域，尤其涉及该领域的一种薄片或超薄片标准具的制作方法。本发明专利技术采用深化光胶方法将光学基片和另一镀有反射膜的光学基片深化光胶，将其中一基片抛光成薄片或超薄片；或将一光学基片镀膜后与另一薄片或超薄片深化光胶，构成两片式光学基片；再在光学基片薄片一面镀上反射膜，或在第三片光学基片上镀上反射膜与两片式基片薄片一面深化光胶，从而制成薄片式或超薄片式标准具。故，本发明专利技术能够解决采用传统方式不易制作或无法制作微米数量级厚的标准具的技术难题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及激光制作领域，尤其涉及该领域的一种薄片或超薄片标准具的 制作方法。
技术介绍
在激光领域中，标准具可以运用于光纤通讯制作宽带可调滤光片，也可以 运用于光学检测领域制作可调谐激光器。但传统标准具一般较厚，以保证镀反 射膜不易变形，而一般超薄实心标准具由于太薄，制作和擦拭易碎，操作很不 方便，同时镀膜层易变形，亦不易夹持。在光纤通讯领域，人们往往需要50nm-200nm的带宽的滤光片，在可调谐激光器中，往往亦需要几十-几百nm滤 光片，这往往需要^f效米^:量级厚的标准具，采用传统方式则不易制作或无法制 作。
技术实现思路
为解决上述问题，本专利技术提供一种方法制作微米数量级厚的标准具。 为实现上述目的，本专利技术的，包含如下 步骤步骤11，第一光学基片一表面镀第一部分反射膜，第二光学基片一表面镀 光胶膜；步骤12,通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜的第一光学基片表面与 镀有光胶膜的第二光学基片表面粘结成为一体； '步骤13,将第二光学基片通过光学加工成薄片； 步骤14,将第二光学基片非镀有光胶膜面镀第二部分反射膜； 或者步骤14可以为步骤151，第三光学基片一表面镀第二部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄片或超薄片标准具制作方法，其特征在于：　包含如下步骤：　步骤１１，第一光学基片（１０）一表面镀第一部分反射膜（１０１），第二光学基片（２０）一表面镀光胶膜（２０１）；　步骤１２，通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜（１０１）的第一光学基片（１０）表面与镀有光胶膜（２０１）的第二光学基片（２０）表面粘结成为一体；　步骤１３，将第二光学基片（２０）通过光学加工成薄片；　步骤１４，将第二光学基片（２０）非镀有光胶膜面镀第二部分反射膜（３０１）；　或者步骤１４可以为：　步骤１５１，第三光学基片（３０）一表面镀第二部分反射膜（３０１）；　步骤１５２，通过深化光胶方式将镀有第二部分反射膜（３０１）的...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴砺，凌吉武，邱英，陈卫民，
申请(专利权)人：福州高意通讯有限公司，
类型：发明
国别省市：35[中国|福建]