一种测量辐射光场三维分布的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：装置的组成包括钻孔半球壳１、光纤２、钻孔圆盘３、可调光阑６、透镜５和ＣＣＤ相机４；可调光阑６位于装置底部，钻孔半球壳１位于可调光阑６上，钻孔圆盘３位于钻孔半球壳１之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜５位于圆盘３之上，ＣＣＤ相机４位于透镜５之上。有益效果在于采用光纤和面阵ＣＣＤ相机可以快速地测量光源辐射光场空间分布。ＣＣＤ相机曝光时间可调，能够对多个不同强度量级的反射分布进行准确测量。整个装置集电源、光源、测试光路、调节、存储和控制单元于一个紧凑的整体，方便实时在线测量及野外测量。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种测量辐射光场三维分布的装置，具体涉及利用光纤传输并通过阵 列式探测器测量三维短射光场分布的领域。
技术介绍
现有的辐射光场分布测量方法主要是利用一个或多个光电探测器在待测样品表面 上方作二维或一维扫描，逐点探测各个观测角度的光强，如M. Barilli和A. Mazzoni 白勺i仑文《An equipment for measuring 3D bi-directional scattering distribution flinction of black painted and differently machined surfaces》(Proc. of SPIE, 59620L, 2005)。该方法探测器响应范围较大，配合后续电路可以实现任意角度处反射光强的精确测量，其缺 点是耗时多，虽然采用计算机控制自动扫描测量可以提高测量速度，但仍不能实现实 时的在线测量，且测量过程中容易因光源输出功率及探测器响应度变化而受到影响， 重复性较差。
技术实现思路
要解决的技术问题为了避免现有技术的不足之处，本专利技术提出一种测量辐射光场二维分布的装置，所要解决的问题主要本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：装置的组成包括钻孔半球壳（１）、光纤（２）、钻孔圆盘（３）、可调光阑（６）、透镜（５）和ＣＣＤ相机（４）；可调光阑（６）位于装置底部，钻孔半球壳（１）位于可调光阑（６）上，钻孔圆盘（３）位于钻孔半球壳（１）之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜（５）位于圆盘（３）之上，ＣＣＤ相机（４）位于透镜（５）之上；所述的可调光阑（６）的下表面与钻孔半球壳（１）的赤道面重合，且可调光阑（６）下表面的中心与钻孔半球壳（１）的球心重合；所述的钻孔半球壳（１）、光纤（２）、钻孔圆盘（３）、可调光阑（６）、透镜（５）和成像系统沿装置主轴同轴分布；所述的钻孔半球壳（１）和钻...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵建林，任驹，
申请(专利权)人：西北工业大学，
类型：实用新型
国别省市：87[中国|西安]