一种测量散射光场三维分布的装置制造方法及图纸

技术编号:2689664 阅读:172 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种测量散射光场三维分布的装置,其特征在于:可调光阑6位于装置底部,钻孔半球壳1位于可调光阑6上,钻孔圆盘3位于钻孔半球壳1之上,二者之间通过若干光纤连接,透镜5位于圆盘3之上,CCD相机4位于透镜5之上;在钻孔圆盘3和透镜5之间固定一个法线与装置主轴成45度角的分束镜9,光源系统7位于分束镜9的一侧,光源功率监测器8与光源系统同轴且位于分束镜9的另一侧。有益效果在于采用光纤和面阵CCD相机可以快速地测量物体表面散射光场的空间分布,在光散射测量过程中利用光源功率监测器对光源的输出功率进行实时监测从而避免了光源输出稳定性对测量结果的影响。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种测量散射光场三维分布的装置,具体涉及利用光纤传输并通过阵 列式探测器测量三维散射光场分布的领域。
技术介绍
物体表面散射光场分布可以用双向反射分布函数(BRDF)描述。BRDF纪录了物 体表面对不同方向的入射光在各个角度的反射分布,是一个多元函数,测量过程复杂。现有的散射光场分布测量方法主要有利用成像系统将各个反射角的光强分布成 像到阵列式探测器上,再通过图像处理得到散射光强分布值,如Kristin J Dana等的论 文《Device for convenient measurement of spatially varying bidirecional reflectance》(J. Opt Soc.Am.A八Aol.21,No. 1,2004)。该方法中,各个角度的散射光强度由光学成像和图像 采集的方法获取,可以实现在短时间内同时测量空间各个角度的光强分布,因此测量 结果比较稳定,重复性好。但是CCD等图像采集器件多为平面阵列结构,要实现对散 射到整个半空间的各个方向光信号的采集,需要适合的系统对光线方向进行变换。 Kristin J Dana等采用离轴抛本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测量散射光场三维分布的装置,其特征在于:装置的组成包括钻孔半球壳(1)、光纤(2)、钻孔圆盘(3)、可调光阑(6)、透镜(5)、CCD相机(4)、光源系统(7)、光源功率监测器(8)和分束镜(9);可调光阑(6)位于装置底部,钻孔半球壳(1)位于可调光阑(6)上,钻孔圆盘(3)位于钻孔半球壳(1)之上,二者之间通过若干光纤连接,透镜(5)位于圆盘3之上,CCD相机(4)位于透镜(5)之上,在钻孔圆盘(3)和透镜(5)之间固定一个法线与装置主轴成45度角的分束镜(9),光源系统(7)位于分束镜(9)的一侧,其光轴垂直于装置主轴,光源功率监测器(8)与光源系统同轴且位于分束镜(9)的另一侧,其...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵建林任驹
申请(专利权)人:西北工业大学
类型:实用新型
国别省市:87[中国|西安]

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