一种晶圆蒸镀伞架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶圆蒸镀伞架，包括本体，在本体上开设复数个伞架槽，每一个伞架槽至少具有一个让位槽，伞架槽之间通过让位槽连通；复数个伞架槽形成外放置圈和内放置圈，内放置圈的伞架槽至少与一外放置圈的伞架槽连通；在内放置圈中，伞架槽至少与内放置圈的另一伞架槽连通，至少一相邻两个伞架槽之间不连通；在外放置圈中，每个伞架槽都具有一个沿本体边缘开设的让位槽，或者，部分伞架槽的让位槽沿本体边缘开设，另一部分未沿本体边缘开设让位槽的伞架槽与沿本体边缘开设让位槽的伞架槽连通。本实用新型专利技术不但可以快速放置晶圆，而且还能避免污染或刮伤晶圆表面。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆蒸镀伞架
本技术属于半导体治具的
，特别涉及一种晶圆蒸镀伞架。
技术介绍
如图1所示，现有的晶圆蒸镀伞架，包括本体1，在本体1上开设一个安装孔11和复数个伞架槽12，伞架槽12为圆形，晶圆放置在伞架槽12内。安装孔11的周围设有复数个螺栓111，在蒸镀机台转轴的周围设有与螺栓111适配的螺母，转轴穿设在安装孔11中，将螺栓111和螺母锁紧，即将晶圆蒸镀伞架安装在蒸镀机台的镀膜腔体内，并且可以通过驱动转轴转动带动蒸镀伞架旋转。蒸镀机台的转轴和轴孔的安装方式属于现有技术，还可以有其他方式，在此不予赘述。在使用现有的蒸镀机台时，例如：当需要在晶圆背面蒸镀一层1000A的镍，在上料作业步骤中，需要先使用真空吸笔将晶圆从晶圆盒取出后，从晶圆正面（上方）用手直接抓住晶圆的边缘，再用真空吸笔穿过本体1的伞架槽12，再从晶圆背面（下方）吸住晶圆后，带动晶圆往下运动，使得晶圆放置在蒸镀架的伞架槽12内。会存在以下问题：1．放置晶圆的步骤较多，不能迅速把晶圆放置好；2．存在污染晶圆表面和边缘，导致在后续黄光的制程中脏污问题；<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆蒸镀伞架，包括本体，其特征在于：在本体上开设复数个伞架槽，每一个伞架槽至少具有一个让位槽，伞架槽之间通过让位槽连通；复数个伞架槽形成外放置圈和内放置圈，内放置圈的伞架槽至少与一外放置圈的伞架槽连通；/n在内放置圈中，伞架槽至少与内放置圈的另一伞架槽连通，至少一相邻两个伞架槽之间不连通；/n在外放置圈中，每个伞架槽都具有一个沿本体边缘开设的让位槽，或者，部分伞架槽的让位槽沿本体边缘开设，另一部分未沿本体边缘开设让位槽的伞架槽与沿本体边缘开设让位槽的伞架槽连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶圆蒸镀伞架，包括本体，其特征在于：在本体上开设复数个伞架槽，每一个伞架槽至少具有一个让位槽，伞架槽之间通过让位槽连通；复数个伞架槽形成外放置圈和内放置圈，内放置圈的伞架槽至少与一外放置圈的伞架槽连通；
在内放置圈中，伞架槽至少与内放置圈的另一伞架槽连通，至少一相邻两个伞架槽之间不连通；
在外放置圈中，每个伞架槽都具有一个沿本体边缘开设的让位槽，或者，部分伞架槽的让位槽沿本体边缘开设，另一部分未沿本体边缘开设让位槽的伞架槽与沿本体边缘开设让位槽的伞架槽连通。


2.根据权利要求1所述的一种晶圆蒸镀伞架，其特征在于：在内放置圈中三个伞架槽为一组，三个伞架槽分别是左伞架槽、中伞架槽和右伞架槽，中伞架槽具有三个让位槽，分别与左伞架槽、右伞架槽和外放置圈的伞架槽连通。


3.根据权利要求1所述的一种晶圆蒸镀伞架，其特征在于：伞架槽为圆形，位于内放置圈的伞架槽圆心处于同一个圆，位于外放置圈的伞架槽圆心处于同一个圆，由内放置圈伞架槽圆心形成的圆和由外放置圈伞架槽圆心形成的圆为同心圆。


4.根据权利要求1所述的一种晶圆蒸镀伞架，其特征在于：本体为一次成型或拼接成型。


5.根据权利要求1或2或3或4所述的一种晶圆蒸镀伞架，其特征在于：在本体上开设容...

【专利技术属性】
技术研发人员：余兆全，林志东，
申请(专利权)人：厦门市三安集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35