防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃技术

本发明专利技术涉及一种防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃，防眩玻璃的制造方法依次包括以下步骤：在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层，玻璃基底包括间隔设置的多个刻蚀区；在保护层上形成一层图案化的光刻胶层，以使刻蚀区上的保护层裸露；对刻蚀区上的保护层进行刻蚀，以使得刻蚀区裸露；对刻蚀区进行湿法蚀刻，并对未被刻蚀的保护层进行脱膜；采用湿法蚀刻而非蒙砂进行刻蚀，避免了蒙砂中的有毒有害物质，对人体及环境存在危害，对环境较为友好，防眩玻璃的晶格较小、粗糙度较小、颗粒大小的均匀性及稳定性较好，能够应用于手机前盖等显示产品，应用于OLED屏等较高端手机前盖时不会出现闪点不良现象，防眩玻璃的产品性能较好，应用较为广泛。

【技术实现步骤摘要】
防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃
本专利技术涉及防眩玻璃
，特别是涉及一种防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃。
技术介绍
防眩玻璃是一种低反射率，高透明度的特殊玻璃，英文名称为：Anti-glareglass，简称为AG玻璃，其工作原理为防眩玻璃的表面呈微粒状的凹凸，将镜面反射调整为漫反射，降低环境光的干扰，形成哑光低反射表面，继而提高显示画面的可视角度、清晰度以及亮度，减少屏幕反光，具有防眩的效果，同时也兼具手感好、外观漂亮、耐脏污等优点。目前防眩玻璃的制备通常采用化学蒙砂的方式在玻璃表面进行不规则微蚀刻，主要包括采用AG蒙砂粉对玻璃表面进行微蚀刻以形成无规律的AG晶格以及采用化学抛光的工艺改变产品的AG参数，但是由于AG蒙砂粉中含有(NH4F)氟化铵等有毒有害物质，对人体及环境存在危害，且其产生的废水处理成本高昂，而且采用AG蒙砂粉形成的AG具有晶格大(普遍大于10um)、粗糙度高、颗粒大小的均匀性及稳定性不足等缺点，只能应用于手机后盖产品及要求不高的车载显示产品等晶格大小需求在10um以上的普通产品，极少能够应用于手机前盖等显示产品，而且应用于OLED屏等较高端手机前盖时易出现闪点等不良现象。
技术实现思路
基于此，有必要针对上述制备方法对人体及环境存在危害并且制备的防眩玻璃晶格较大的问题，提供一种防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃。一种防眩玻璃的制造方法，依次包括以下步骤：在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层，所述玻璃基底包括刻蚀区；在保护层上形成一层图案化的光刻胶层，以使所述刻蚀区上的保护层裸露；对所述刻蚀区上的保护层进行刻蚀，以使得所述刻蚀区裸露；对所述刻蚀区进行湿法蚀刻，并对未被刻蚀的保护层进行脱膜。在其中一个实施例中，所述在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层，具体包括：对玻璃基底进行清洗；在玻璃基底表面蒸镀形成一层金属膜层。在其中一个实施例中，所述金属膜层的材质为钼、铜、金或铝，所述金属膜层的厚度为350nm-450nm。在其中一个实施例中，所述在保护层上形成一层图案化的光刻胶层，具体包括：在所述金属膜层上涂布一层光刻胶；对所述光刻胶进行曝光显影，以使所述刻蚀区上的金属膜层裸露。在其中一个实施例中，所述对所述刻蚀区上的保护层进行刻蚀，具体包括：采用铝酸溶液刻蚀所述刻蚀区上的金属膜层，以使得所述刻蚀区裸露。在其中一个实施例中，所述对所述刻蚀区进行湿法蚀刻，具体包括：采用摩尔浓度为1mol/L-2mol/L的氢氟酸溶液刻蚀所述刻蚀区。在其中一个实施例中，所述刻蚀区的蚀刻量为1um-2um。在其中一个实施例中，在对所述刻蚀区进行湿法蚀刻之前，还包括采用氢氧化钠溶液去除所述光刻胶层。在其中一个实施例中，所述对未被刻蚀的保护层进行脱膜，具体包括：采用铝酸溶液对未被刻蚀的金属膜层进行脱膜；在脱膜后进行清洗，以形成防眩玻璃。在其中一个实施例中，对未被刻蚀的保护层进行脱膜，具体包括：采用氢氧化钠溶液去除所述光刻胶层；采用铝酸溶液对未被刻蚀的金属膜层进行脱膜；在脱膜后进行清洗，以形成防眩玻璃。在其中一个实施例中，所述玻璃基底还包括多个晶格区，所述晶格区和所述刻蚀区间隔设置，所述刻蚀区为圆形区域，且所述圆形区域的直径为2.5um-3.5um，在相邻两个所述刻蚀区的圆心连线方向上，相邻两个所述刻蚀区的间距为1.5um-2.5um。另外，本专利技术还提供了一种防眩玻璃，所述防眩玻璃采用如上述任一项技术方案所述的防眩玻璃的制造方法得到。在其中一个实施例中，所述防眩玻璃的透过率≥90％、雾度≤10％、粗糙度≤0.05um、光泽度≥100％，所述防眩玻璃的晶格为1.5um-2.5um。上述防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃中，防眩玻璃的制造方法通过局部蚀刻的方式制备高透防眩玻璃，以使得防眩玻璃的晶格较小，并且在OLED屏上无闪点不良。在具体设置时，通过在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层，以对无需进行蚀刻的玻璃基底进行保护；通过在保护层上形成一层图案化的光刻胶层，以使得刻蚀区上的保护层裸露，裸露保护层的区域用于进行后续蚀刻，玻璃基底上除刻蚀区以外的区域上设置光刻胶层，光刻胶保护除刻蚀区以外的区域；通过对刻蚀区上的保护层进行刻蚀，以使得刻蚀区裸露，裸露的刻蚀区用于进行后续的蚀刻；通过对刻蚀区进行湿法蚀刻，以形成AG颗粒，然后对未被刻蚀的保护层进行脱膜，以形成防眩玻璃；在上述制造方法中采用湿法蚀刻而非蒙砂进行刻蚀，避免了蒙砂中的有毒有害物质，对人体及环境存在危害，成本较低，安全性较好，对环境较为友好，并且采用湿法蚀刻形成的防眩玻璃的晶格较小、粗糙度较小、颗粒大小的均匀性及稳定性较好，能够应用于手机前盖等显示产品，而且应用于OLED屏等较高端手机前盖时不会出现闪点不良现象，防眩玻璃的产品性能较好，应用较为广泛。附图说明图1为根据本专利技术提供的一种防眩玻璃的制造方法的流程图；图2为根据本专利技术提供的一种防眩玻璃的结构示意图；图3(a)-图3(f)为根据本专利技术提供的一种防眩玻璃的制造方法的工艺示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防眩玻璃的制造方法，其特征在于，依次包括以下步骤：/n在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层，所述玻璃基底包括间隔设置的多个刻蚀区；/n在保护层上形成一层图案化的光刻胶层，以使所述刻蚀区上的保护层裸露；/n对所述刻蚀区上的保护层进行刻蚀，以使得所述刻蚀区裸露；/n对所述刻蚀区进行湿法蚀刻，并对未被刻蚀的保护层进行脱膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种防眩玻璃的制造方法，其特征在于，依次包括以下步骤：
在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层，所述玻璃基底包括间隔设置的多个刻蚀区；
在保护层上形成一层图案化的光刻胶层，以使所述刻蚀区上的保护层裸露；
对所述刻蚀区上的保护层进行刻蚀，以使得所述刻蚀区裸露；
对所述刻蚀区进行湿法蚀刻，并对未被刻蚀的保护层进行脱膜。


2.根据权利要求1所述的防眩玻璃的制造方法，其特征在于，所述在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层，具体包括：
对玻璃基底进行清洗；
在玻璃基底表面蒸镀形成一层金属膜层。


3.根据权利要求2所述的防眩玻璃的制造方法，其特征在于，所述金属膜层的材质为钼、铜、金或铝，所述金属膜层的厚度为350nm-450nm。


4.根据权利要求2所述的防眩玻璃的制造方法，其特征在于，所述在保护层上形成一层图案化的光刻胶层，具体包括：
在所述金属膜层上涂布一层光刻胶；
对所述光刻胶进行曝光显影，以使所述刻蚀区上的金属膜层裸露。


5.根据权利要求4所述的防眩玻璃的制造方法，其特征在于，所述对所述刻蚀区上的保护层进行刻蚀，具体包括：
采用铝酸溶液刻蚀所述刻蚀区上的金属膜层，以使得所述刻蚀区裸露。


6.根据权利要求5所述的防眩玻璃的制造方法，其特征在于，所述对所述刻蚀区进行湿法蚀刻，具体包括：
采用摩尔浓度为1mol/L-2mol/L的氢氟酸溶液刻蚀所述刻蚀区。

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【专利技术属性】
技术研发人员：张迅，易伟华，谢凯立，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36