一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，包括以下步骤：（1）配置高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液，并将蚀刻液置于蚀刻淋砂装置内；（2）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护；（3）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片需要蚀刻的一面清洗干净并风干，在干式状态下放置于蚀刻淋砂装置中进行淋砂蚀刻处理；（4）从蚀刻淋砂装置中取出被蚀刻好的高铝硅玻璃材质手机后壳原片，再用抛光液进行抛光处理，清洗干净，最后风干或烘干即可。本发明专利技术对高铝硅玻璃材质的手机后壳进行蒙砂蚀刻处理，在玻璃表面形成一层微米级厚度的方型柱状微晶颗粒，在迎光的情况下，玻璃表面呈现出星光闪烁的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺
本专利技术属于蚀刻玻璃
，具体涉及一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺。
技术介绍
随着5G智能手机的普及与推广，手机型号的多元化需求也呈现出来，手机玻璃后壳的蒙砂装饰越来越受到人们的青睐，目前常用的蒙砂技术就是通过蒙砂液对玻璃基体进行蒙砂蚀刻，可使玻璃基体获得雾面朦胧的外观效果，提升手机后壳的外观视觉效果。然而，目前对玻璃基体进行蒙砂蚀刻的蒙砂液、蒙砂玻璃及其加工方法以及所产生的特殊蚀刻效果仍有待改进，不同的特殊蚀刻效果需要不同的蒙砂药液配方与不同的蚀刻工艺方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，对高铝硅玻璃材质的手机后壳进行蒙砂蚀刻处理，在玻璃表面形成一层微米级厚度的方型柱状微晶颗粒，在迎光的情况下，玻璃表面呈现出星光闪烁的效果。基于上述目的，本专利技术采取如下技术方案：一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，包括以下步骤：（1）配置高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液，搅拌均匀直至蚀刻液呈均匀一致的过饱和溶液状态，并将本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：/n（1）配置高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液，搅拌均匀直至蚀刻液呈均匀一致的过饱和溶液状态，并将蚀刻液置于蚀刻淋砂装置内；/n（2）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护；/n（3）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片需要蚀刻的一面清洗干净并风干，在干式状态下放置于蚀刻淋砂装置中进行淋砂蚀刻处理；/n（4）从蚀刻淋砂装置中取出被蚀刻好的高铝硅玻璃材质手机后壳原片，再用抛光液进行抛光处理，清洗干净，最后风干或烘干即可。/n

【技术特征摘要】
1.一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
（1）配置高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液，搅拌均匀直至蚀刻液呈均匀一致的过饱和溶液状态，并将蚀刻液置于蚀刻淋砂装置内；
（2）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护；
（3）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片需要蚀刻的一面清洗干净并风干，在干式状态下放置于蚀刻淋砂装置中进行淋砂蚀刻处理；
（4）从蚀刻淋砂装置中取出被蚀刻好的高铝硅玻璃材质手机后壳原片，再用抛光液进行抛光处理，清洗干净，最后风干或烘干即可。


2.根据权利要求1所述的高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊国祥，
申请(专利权)人：郑州恒昊光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河南;41