光子晶体全方向全反膜制造技术

技术编号:2676422 阅读:239 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种光子晶体全方向全反膜,其特征在于:该全反膜由基片和介质膜层构成;介质膜层由两种或多种具有不同折射率的介质构成,形成一维周期膜单元,属于一维光子晶体结构;介质膜层通过现代真空离子镀等镀膜方法在基片上形成薄膜而得到。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种能够对特定波段内的光波产生“禁带”,实现对各个角度入射的光波都进行完全反射的反射膜

技术介绍
在现有技术中,常用的反射镜一般采用镀金属膜层或介质膜层的方法,实现对光波的反射。虽然金属膜层的反射波段比较宽,对各个角度入射的特定波段内的光波都可以实现反射,但存在着反射率相对较低的问题;尤其由于吸收的原因,还存在光波能量损耗较大的问题。而介质膜层是采取在基片上镀制多层介质膜的方法,实现高效率反射的,但由于光波在介质中的传播特性决定了这种高效率反射只能对某一特定角度入射的光波实现,因此存在着反射率随入射角度出现偏差会很快下降,并且膜层的工作波段很窄等问题。显然上述两种反射镜都难以对各个角度入射的光波都进行完全反射。
技术实现思路
本专利技术的全反膜所要解决的技术问题是利用一维光子晶体原理,提供一种新的光子晶体全方向全反膜,使反射镜对于特定波段内的光波,实现对各个角度入射的光波都进行完全反射。本专利技术采用的技术方案是本专利技术的光子晶体全方向全反膜由基片和介质膜层构成;介质膜层由周期性结构的介质构成,属于一维光子晶体结构,两种或多种具有不同折射率的介质形成一维周期膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:侯静贺军涛陆启生姜宗福程湘爱陈金宝舒柏宏刘泽金赵伊君
申请(专利权)人:中国人民解放军国防科学技术大学
类型:发明
国别省市:

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