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一种光子晶体全方向全反膜，其特征在于：该全反膜由基片和介质膜层构成；介质膜层由两种或多种具有不同折射率的介质构成，形成一维周期膜单元，属于一维光子晶体结构；介质膜层通过现代真空离子镀等镀膜方法在基片上形成薄膜而得到。...
该专利属于中国人民解放军国防科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军国防科学技术大学授权不得商用。

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