一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统技术方案

本发明专利技术涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域，且公开了一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统，包括反应腔体，所述反应腔体底部分别固定安装有进气口、第一压力变送器与出气口，所述出气口的一端固定连接有冷凝阱，通过机械压力表更换为压力变送器，压力值实时显示在控制电脑屏幕上，反应腔体的压力值的维持通过电动控制波纹管阀和反应腔体内的第一压力变送器配合，电动控制波纹管阀自动调节开合度大小来实现，而且整个过程完全自动控制，无需人为干涉，液环泵入口处安装有压力变送器，只有当液环真空泵入口的压力值比反应腔体内压力小的时候，才能打开气动球阀，这样可以避免液环泵内的NaOH液体倒灌到反应腔体内。

【技术实现步骤摘要】
一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统
本专利技术涉及金属切削刀具和工模具涂层
，具体为一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统。
技术介绍
CVD是在其它材料(基材)的金属加工用工件例如模具、切削工具、耐磨损、耐腐蚀零件等的表面上成膜的方法，尤其是薄膜形成方法，化学气相沉积的特点是反应气体所含化合物的化学反应的进行，所期望的化学反应主要产物沉积在基材表面上并在那里形成涂层或者说覆膜，可能的反应副产物以气体形态出现并且必须从气体混合物中被除去以保证层膜性能，这通过排气管路来实现。经过涂层的切削刀具、工模具的使用寿命会大大提高，经过涂层的零部件更加耐腐蚀和耐磨损。现有的常见的技术中一般为反应腔体内的压力测量通过机械式压力表读取，以及反应腔体内设定的压力值通过手动调节液环真空泵入口处的阀门开合大小来控制，但是这种技术中反应腔体内的压力测量通过机械压力表读取，需要人为查看压力表获知反应腔体内的实际压力，反应腔体内设定的压力值通过手动调节液环真空泵入口处的手动阀门开合大小来控制被液环真空泵抽走的气量来实现，因本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统，包括反应腔体(12)，其特征在于：所述反应腔体(12)底部分别固定安装有进气口(1)、第一压力变送器(2)与出气口(3)，所述出气口(3)的一端固定连接有冷凝阱(4)，所述冷凝阱(4)的一端固定安装有第一气动球阀(5)，所述第一气动球阀(5)的一端固定连接有电动控制波纹管阀(6)，所述电动控制波纹管阀(6)的一端固定连接有第二气动球阀(7)，所述第二气动球阀(7)的一端固定连接有液环真空泵(9)，所述液环真空泵(9)的一端固定安装有液环真空泵排出口(11)，所述液环真空泵(9)的另一端固定安装有NaOH液体入口(10)。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统，包括反应腔体(12)，其特征在于：所述反应腔体(12)底部分别固定安装有进气口(1)、第一压力变送器(2)与出气口(3)，所述出气口(3)的一端固定连接有冷凝阱(4)，所述冷凝阱(4)的一端固定安装有第一气动球阀(5)，所述第一气动球阀(5)的一端固定连接有电动控制波纹管阀(6)，所述电动控制波纹管阀(6)的一端固定连接有第二气动球阀(7)，所述第二气动球阀(7)的一端固定连接有液环真空泵(9)，所述液环真空泵(9)的一端固定安装有液环真空泵排出口(11)，所述液环真空泵(9)的另一端固定安装有N...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彤，
申请(专利权)人：常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32