通过局部基片应力方法制造的具有可控发散度的后向反射器技术

一种产生畸变微光学元件阵列的方法，该方法包括：　　　　提供基片，其具有相反的第一表面和第二表面，所述第一表面具有在其上形成的微光学元件阵列，和　　　　在所述基片第二表面上的一个或多个局部区域进行可控加工，可控加工的程度足以使与加工位置相反的所述微光学元件中的一个或多个畸变。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及制造一种后向反射(retroreflective)物品的方法，该物品具有可控发散或发散度(divergence)，并且本专利技术涉及由所述方法制造的物品。
技术介绍
众所周知的是后向反射物品可以由微立方隅角(microcube corner)元件阵列制成。这种微立方隅角元件阵列是通过在一张板材的平面内刻划出母片来制成的，其中母片具有“凸”立方隅角。这大体在Stamm的美国专利U.S.3712706有所描述。也在Pricone的美国专利U.S.4478769有详细描述，该专利被转让给共同受让人，其全文在此参考引入。美国专利U.S.4478769描述了一种众所周知的制造三角立方隅角(triangular cube corner)元件的方法，其中用钻石切削工具来刻划母板的平面，该切削工具切出一系列精确平行的V形槽。为了刻划等边的三角立方隅角，应制成三组平行槽，三组平行槽的方向以60°角彼此相交；每个槽也应该具有对称设置的大致70.53°的夹角，而且将被刻划的槽深是由所需的立方隅角的高度决定的。这种方法自动在母片的表面产生成对的方向相反的等边三角微立方体阵列。为了刻划不等边本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：D·I·库金，S·R·查普曼，K·黄，
申请(专利权)人：艾利丹尼森公司，
类型：发明
国别省市：