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一种产生畸变微光学元件阵列的方法，该方法包括：　　　　提供基片，其具有相反的第一表面和第二表面，所述第一表面具有在其上形成的微光学元件阵列，和　　　　在所述基片第二表面上的一个或多个局部区域进行可控加工，可控加工的程度足以使与加工位置相反的...
该专利属于艾利丹尼森公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾利丹尼森公司授权不得商用。

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