一种用于半导体石墨清洗的清洗设备及其清洗方法技术

本发明专利技术公开了一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，包括底座，在底座顶面两侧的中部分别固定设有立柱和导向柱，在导向柱的柱体上部设有缓冲组件；在立柱内侧面的上部竖向活动设有滑板，在滑板的外侧中部横向固定设有横梁，在底座的顶面中部两侧分别固定设有矩形的清洗箱和支撑座，在清洗箱内设有清洗组件；在导向杆的杆体活动套设有滑块；在电推杆的伸缩端底部设有承载组件；本发明专利技术便于操作，通过升降组件和调节组件解决了现有半导体石墨在清洗时不便于工作人员进行取放工作的问题；通过清洗组件解决现有半导体石墨清洗装置清洗耗时较长的问题；通过收集箱便于增加对于清洗药液的回收利用，便于节约资源。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体石墨清洗的清洗设备及其清洗方法
本专利技术涉及半导体石墨清洗的
，尤其涉及一种用于半导体石墨清洗的清洗设备及其清洗方法。
技术介绍
石墨是自然界中的重要的非金属矿物之一，是炭质元素结晶矿物；半导体石墨的制备方法中需要对半导体石墨进行洗涤，所采用洗涤方法的的是化学法中的碱酸法和氢氟酸法，脱除杂质提高碳含量达到高纯石墨；洗涤分为酸洗和水洗，酸洗能有效溶解熔融所生成的大部分硅酸盐、铁、镁等杂质；水洗能深度脱除附着在鳞片石墨上酸与杂质生成的盐等；传统的清洗方式采用人工搅拌清洗，将反应完的石墨浆体导入容器中，对其进行搅拌；但现有半导体石墨在清洗时不便于工作人员进行取放工作，同时现有半导体石墨清洗装置在对于石墨的清洗耗时较长，不利于提高半导体石墨的清洗效率；以及现有清洗装置对于清洗液的使用较为浪费，不利于资源的节约。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备。为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，包括底座，所述底座为水平设置的矩形板状，在所述底座的底面四家均竖向固定设有支撑腿；在所述底座顶面两侧的中部分别固定设有立柱和导向柱，在所述立柱内的上部竖向开设有升降腔，在所述升降腔的下部开设有驱动腔；在所述升降腔内设有矩形的升降组件；在所述导向柱的柱体上部设有缓冲组件；在所述立柱内侧面的上部竖向活动设有滑板，在所述滑板的外侧中部横向固定设有横梁，在所述横梁内横向开设有矩形的调节腔，在所述调节腔的一侧开设有电机腔；在所述调节腔内设有调节组件；在所述底座的顶面中部两侧分别固定设有矩形的清洗箱和支撑座，在所述清洗箱内设有清洗组件，在所述支撑座的顶面水平固定设有放置台；在所述横梁的底面两侧均固定设有竖板，在两个竖板之间横向固定设有导向杆，在所述导向杆的杆体活动套设有水平设置的滑块，在所述滑块的一侧配合导向杆开设有导向孔；在所述滑块的顶面竖向固定设有电推杆，在所述电推杆的伸缩端底部设有承载组件；在所述清洗箱下方的底座底面固定设有电机箱，在所述电机箱内竖向固定设有第一电机，在所述底座底面的另一侧固定设有矩形的收集箱，在所述清洗箱的一侧底部固定设有连接弯管，且所述连接弯管的底端贯穿进收集箱内；在所述收集箱底部的一侧竖向固定设有排放管。优选地，所述清洗组件包括转动轴、转动盘和毛刷杆，在所述清洗箱内底面的中部水平固定设有第一轴承，在所述第一轴承的内圈中竖向固定设有转动轴，所述转动轴的顶端水平固定设有转动盘，且所述转动轴的底端贯穿进电机箱内，并通过联轴器与第一电机的电机轴同轴固接；在所述转动盘的顶面开设有矩形的安装槽，在所述安装槽内的底部等距竖向固定设有若干圆杆状的毛刷杆，在每个所述毛刷杆的杆体周侧均固定设有毛刷条。优选地，所述承载组件包括存储箱、过滤网、插孔、竖杆和连接套管，在所述安装槽内设有矩形的存储箱，在所述存储箱的各个侧面均开设有矩形开口，在每个所述矩形开口内均固定设有过滤网，在所述存储箱的底面配合毛刷杆开设有若干圆形的插孔，且每个所述毛刷杆均从插孔内插入存储箱内；在所述存储箱的顶面中部开设有轴承槽，在所述轴承槽内固定设有第二轴承，在所述第二轴承的内圈中竖向固定设有竖杆，在所述竖杆的顶端竖向固定设有连接套管，在所述连接套管的管体中部开设有螺纹孔，在所述螺纹孔内螺旋连接有固定螺栓；所述电推杆的伸缩端底部插设在连接套管内，在所述电推杆的伸缩端底部配合固定螺栓开设有第二螺纹孔，且所述固定螺栓的后端螺旋连接在第二螺纹孔内。优选地，所述升降组件包括第二电机、丝杠和螺纹筒，在所述驱动腔内竖向固定设有第二电机，在所述升降腔内的顶部和底部均固定设有第三轴承，所述丝杠竖向设置在升降腔内，且所述丝杠的两端均固接在第三轴承的内圈中；所述丝杠的底端贯穿进驱动内，并通过联轴器与第二电机的电机轴同轴固接；在所述丝杠的杆体上活动套设有螺纹筒，在所述螺纹筒的筒体一侧横向固定设有连接板，在所述升降腔内的一侧内壁上沿高度方向开设有条状开口，且所述连接板的外端从条状开口内延伸出升降腔外，所述连接板的外端与滑板的外侧中部固接。优选地，所述调节组件包括第三电机、螺纹杆和螺纹套管，在电机腔内横向固定设有第三电机，在所述调节腔的两侧内壁上均设有第四轴承，所述螺纹杆横向设置在调节腔内，且所述螺纹杆的两端均固接在第四轴承的内圈中；所述螺纹杆的一端贯穿进电机腔内，并通过联轴器与第三电机的电机轴同轴固接；在所述螺纹杆的杆体上活动套设有螺纹套管，在所述螺纹套管的管体底部竖向固定设有连接杆，在所述调节腔的内底面沿长度方向开设有条形开口，且所述连接杆的底端从条形开口内延伸出与滑块的顶面固接。优选地，在所述放置台的顶面开设有矩形的放置槽，在所述放置槽内的底面上横向等均开设有若干条状的导流槽，在所述放置槽内的底部一侧纵向水平开设有集流槽，且每个所述导流槽均与集流槽连通设置；在所述放置台的底面一侧中部竖向设置有导流管，且所述导流管的两端分别贯穿进集流槽和收集箱内；在所述滑块的导向孔内壁四周均开设有滚珠槽，在每个所述滚珠槽内均活动卡设有滚珠，且每个所述滚珠三分之三的珠体卡设在滚珠槽内，在所述导向杆的杆体表面均配合滚珠横向开设有条状的滚珠滑槽，且每个所述滚珠的其余珠体均活动抵压在滚珠滑槽内。优选地，所述缓冲组件包括固定板、缓冲弹簧、缓冲板和导向套管，在所述导向柱的柱体中部水平固定套设有环形板状的固定板，在所述固定板上方的导向柱柱体上活动套设有缓冲弹簧和环形板状的缓冲板，且所述缓冲弹簧位于缓冲板的下方；所述缓冲弹簧的两端分别与固定板的顶面和缓冲板的底面固接；在所述导向柱的柱体上部活动套设有导向套管，在所述导向套管的管体一侧横向固接有横杆，且所述横杆的一端与横梁的一侧中部固接。本专利技术还提出了一种用于半导体石墨清洗的清洗设备的清洗方法，包括以下步骤：步骤一，首先将电推杆、第一电机、第二电机和第三电机分别通过导线与外接电源电性连接，然后往清洗箱内注入清洗液，然后将待清洗的半导体石墨从存储箱顶部的进料口放入存储箱内，然后通过升降组件将装有半导体石墨的存储箱沉入清洗箱内；步骤二，通过控制升降组件带动滑板在立柱的柱体上进行升降，通过滑板的升降带动横梁进行升降，通过横梁的升降带动导向杆上额滑块进行升降，通过滑块的升降带动电推杆底端的承载组件进行升降，通过电推杆的伸缩推动竖杆底端的存储箱抵压在转动盘的安装槽内，并使安装槽内的毛刷杆均通过插孔插设进存储箱内；步骤三，然后通过控制第一电机带动转动轴进行转动，通过转动轴带动转动盘进行转动，通过转动盘的转动带动装有半导体石墨的存储箱进行转动，通过在毛刷杆的毛刷条和转动产生的离心力的作用下，对半导体石墨进行快速清洗；步骤四，在对半导体石墨清洗结束后，通过控制电推杆的伸缩将存储箱升出安装槽外，通过控制升降组件带动横梁上升，通过横梁的升降将电推杆底端的承载组件升出清洗箱外；步骤五，通过控制调节组件带动滑块在导向杆上进行横向移动，通过滑块的横向移动带动电推杆端的承载组件进行横向移动，移动至防本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）为水平设置的矩形板状，在所述底座（1）的底面四家均竖向固定设有支撑腿；在所述底座（1）顶面两侧的中部分别固定设有立柱（2）和导向柱（3），在所述立柱（2）内的上部竖向开设有升降腔，在所述升降腔的下部开设有驱动腔；在所述升降腔内设有矩形的升降组件；在所述导向柱（3）的柱体上部设有缓冲组件；在所述立柱（3）内侧面的上部竖向活动设有滑板（4），在所述滑板（4）的外侧中部横向固定设有横梁（5），在所述横梁（5）内横向开设有矩形的调节腔，在所述调节腔的一侧开设有电机腔；在所述调节腔内设有调节组件；在所述底座（1）的顶面中部两侧分别固定设有矩形的清洗箱（6）和支撑座（7），在所述清洗箱（6）内设有清洗组件，在所述支撑座（7）的顶面水平固定设有放置台（8）；/n在所述横梁（5）的底面两侧均固定设有竖板（9），在两个竖板（9）之间横向固定设有导向杆（10），在所述导向杆（10）的杆体活动套设有水平设置的滑块（11），在所述滑块（11）的一侧配合导向杆（10）开设有导向孔；在所述滑块（11）的顶面竖向固定设有电推杆（12），在所述电推杆（12）的伸缩端底部设有承载组件；在所述清洗箱（6）下方的底座（1）底面固定设有电机箱（13），在所述电机箱（13）内竖向固定设有第一电机（14），在所述底座（1）底面的另一侧固定设有矩形的收集箱（15），在所述清洗箱（6）的一侧底部固定设有连接弯管（16），且所述连接弯管（16）的底端贯穿进收集箱（15）内；在所述收集箱（15）底部的一侧竖向固定设有排放管（17）。/n...

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）为水平设置的矩形板状，在所述底座（1）的底面四家均竖向固定设有支撑腿；在所述底座（1）顶面两侧的中部分别固定设有立柱（2）和导向柱（3），在所述立柱（2）内的上部竖向开设有升降腔，在所述升降腔的下部开设有驱动腔；在所述升降腔内设有矩形的升降组件；在所述导向柱（3）的柱体上部设有缓冲组件；在所述立柱（3）内侧面的上部竖向活动设有滑板（4），在所述滑板（4）的外侧中部横向固定设有横梁（5），在所述横梁（5）内横向开设有矩形的调节腔，在所述调节腔的一侧开设有电机腔；在所述调节腔内设有调节组件；在所述底座（1）的顶面中部两侧分别固定设有矩形的清洗箱（6）和支撑座（7），在所述清洗箱（6）内设有清洗组件，在所述支撑座（7）的顶面水平固定设有放置台（8）；
在所述横梁（5）的底面两侧均固定设有竖板（9），在两个竖板（9）之间横向固定设有导向杆（10），在所述导向杆（10）的杆体活动套设有水平设置的滑块（11），在所述滑块（11）的一侧配合导向杆（10）开设有导向孔；在所述滑块（11）的顶面竖向固定设有电推杆（12），在所述电推杆（12）的伸缩端底部设有承载组件；在所述清洗箱（6）下方的底座（1）底面固定设有电机箱（13），在所述电机箱（13）内竖向固定设有第一电机（14），在所述底座（1）底面的另一侧固定设有矩形的收集箱（15），在所述清洗箱（6）的一侧底部固定设有连接弯管（16），且所述连接弯管（16）的底端贯穿进收集箱（15）内；在所述收集箱（15）底部的一侧竖向固定设有排放管（17）。


2.根据权利要求1所述的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，其特征在于：所述清洗组件包括转动轴（18）、转动盘（19）和毛刷杆（20），在所述清洗箱（6）内底面的中部水平固定设有第一轴承，在所述第一轴承的内圈中竖向固定设有转动轴（18），所述转动轴（18）的顶端水平固定设有转动盘（19），且所述转动轴（19）的底端贯穿进电机箱（13）内，并通过联轴器与第一电机（14）的电机轴同轴固接；在所述转动盘（20）的顶面开设有矩形的安装槽，在所述安装槽内的底部等距竖向固定设有若干圆杆状的毛刷杆（20），在每个所述毛刷杆（20）的杆体周侧均固定设有毛刷条。


3.根据权利要求2所述的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，其特征在于：所述承载组件包括存储箱（21）、过滤网（22）、插孔（23）、竖杆（24）和连接套管（25），在所述安装槽内设有矩形的存储箱（21），在所述存储箱（21）的各个侧面均开设有矩形开口，在每个所述矩形开口内均固定设有过滤网（22），在所述存储箱（21）的底面配合毛刷杆（20）开设有若干圆形的插孔（23），且每个所述毛刷杆（20）均从插孔（23）内插入存储箱（21）内；在所述存储箱（21）的顶面中部开设有轴承槽，在所述轴承槽内固定设有第二轴承，在所述第二轴承的内圈中竖向固定设有竖杆（24），在所述竖杆（24）的顶端竖向固定设有连接套管（25），在所述连接套管（25）的管体中部开设有螺纹孔，在所述螺纹孔内螺旋连接有固定螺栓；所述电推杆（12）的伸缩端底部插设在连接套管（25）内，在所述电推杆（12）的伸缩端底部配合固定螺栓开设有第二螺纹孔，且所述固定螺栓的后端螺旋连接在第二螺纹孔内。


4.根据权利要求1所述的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，其特征在于：所述升降组件包括第二电机（26）、丝杠（27）和螺纹筒（28），在所述驱动腔内竖向固定设有第二电机（26），在所述升降腔内的顶部和底部均固定设有第三轴承，所述丝杠（27）竖向设置在升降腔内，且所述丝杠（27）的两端均固接在第三轴承的内圈中；所述丝杠（27）的底端贯穿进驱动内，并通过联轴器与第二电机（26）的电机轴同轴固接；在所述丝杠（27）的杆体上活动套设有螺纹筒（28），在所述螺纹筒（28）的筒体一侧横向固定设有连接板，在所述升降腔内的一侧内壁上沿高度方向开设有条状开口，且所述连接板的外端从条状开口内延伸出升降腔外，所述连接板的外端与滑板（4）的外侧中部固接。


5.根据权利要求1所述的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，其特征在于：所述调节组件包括第三电机（...

【专利技术属性】
技术研发人员：高蓉连，张培林，武建军，柴利春，张作文，王志辉，
申请(专利权)人：大同新成新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山西;14