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本发明公开了一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，包括底座，在底座顶面两侧的中部分别固定设有立柱和导向柱，在导向柱的柱体上部设有缓冲组件；在立柱内侧面的上部竖向活动设有滑板，在滑板的外侧中部横向固定设有横梁，在底座的顶面中部两侧分别固定设有矩形...
该专利属于大同新成新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大同新成新材料股份有限公司授权不得商用。

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