可变形反射镜制造技术

本发明专利技术涉及一种自适应光学系统的变形镜。可变形反射镜，它包括驱动电极和硅膜，其特征在于：驱动电极（７）位于硅膜（６）的下方，驱动电极（７）与硅膜（６）之间的间距为３５－４５μｍ；硅膜（６）的上方设有透明电极（５），透明电极（５）与硅膜（６）之间的间距为６５－７５μｍ；硅膜（６）、透明电极（５）分别与镜面支架（８）相固定，驱动电极（７）由支撑柱（９）与镜面支架（８）固定连接。本发明专利技术采用硅膜（６）的上方设有透明电极（５），它能驱使硅膜（６）产生靠近或远离驱动电极的两种形变，从而能更好地控制镜膜的形变，极大地提高校正波前的能力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种自适应光学系统的变形镜。
技术介绍
典型的自适应光学系统是使用波前传感器2探测入射光波1前畸变，然后通过控制器向波前校正设备发出控制信号，控制镜面(变形镜)3的动作，使镜面发生形变。当镜面形状与畸变相位满足相位共轭关系时，畸变就会被抵消掉，从而波前得到恢复，成像(CCD)4分辨率得到提高。图1所示是一个典型的自适应光学结构图。镜面变形的能力及频率特性影响着整个光学系统的性能。变形镜是自适应光学系统的关键部件，美国Itek公司最先开始研制变形镜并于1973年研制成功第一块21单元整体压电变形镜。80年代法国Laserdot公司研制成功52单元分立式压电变形镜并提供给欧洲南方天文台使用。我国这方面起步较晚，中科院光电研究所于1986年研制成功19单元分立式压电变形镜并马上应用于被誉为“神光”的核聚变光学系统，这是世界上首次将变形镜应用于校正激光核聚变光学系统的波前误差。然而传统的压电式，电磁式，液压式等成本高，驱动电压高，体积大，驱动电极少，变形量小，更主要的缺点通常是只能产生一个方向的形变。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种校正波前能力强的可变形反射镜。为了本文档来自技高网...

【技术保护点】
可变形反射镜，它包括驱动电极和硅膜，其特征在于：驱动电极（７）位于硅膜（６）的下方，驱动电极（７）与硅膜（６）之间的间距为３５－４５μｍ；硅膜（６）的上方设有透明电极（５），透明电极（５）与硅膜（６）之间的间距为６５－７５μｍ；硅膜（６）、透明电极（５）分别与镜面支架（８）相固定，驱动电极（７）由支撑柱（９）与镜面支架（８）固定连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：向东，程永进，谭季麓，李铁平，王青玲，王稀成，
申请(专利权)人：中国地质大学武汉，
类型：发明
国别省市：83[中国|武汉]