真空成膜方法、装置、以及用其制造的滤光片制造方法及图纸

技术编号:2670821 阅读:184 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的真空成膜方法以及装置,在设在真空室(1)内且流路(7f)、(7g)、(7i)内流入规定的载热溶液的基体材料支持构件(6a)上安装基体材料,使所述真空室内保持实质上的真空状态,在所述真空室的内部,从2个或2个以上的蒸发源使蒸发材料蒸发,以规定的顺序使该蒸发的所述蒸发材料扩散到所述真空室的内部,使该扩散的所述蒸发材料蒸镀在所述基体材料的蒸镀面上,使由所述蒸发材料构成的多层膜在所述基体材料的蒸镀面上形成,在这样的成膜方法中,将防冻溶液用作流入所述基体材料支持构件具备的流路内的所述规定的载热溶液。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在真空室内将多层膜形成于基体材料上的真空成膜方法、装置以及用其制造的滤光片。
技术介绍
向来,将各种真空成膜装置用作制造使用目的在于在玻璃板等基体材料的表面上形成多层膜,使规定波长范围的光透过等的滤光片用的成膜装置。作为真空成膜装置,适合使用例如离子电镀装置。这种离子电镀装置具有可以使其内部维持实质上的真空状态的真空室。在该真空室的底部上配置有使薄膜形成材料蒸发用的2个或2个以上的蒸发源,将基体材料支持构件配置成与这些蒸发源对置。通过绝缘板在该基体材料支持构件的背面中央部安装旋转轴,该旋转轴贯穿真空室的内侧顶部壁,连接配置在该真空室上部的旋转驱动装置。即在真空室的内部利用旋转轴以及旋转驱动装置旋转自如地支持基体材料支持构件。然后,在所述绝缘板与该基体材料支持构件的接触部的外周上埋设环状的接触构件。该接触构件与基体材料支持构件电连接。又,碳刷与该接触构件接触,该碳刷连接于对基体材料支持构件提供高频电力的高频电源和施加偏压的直流电源。而且,为了保护所述旋转轴以及旋转驱动装置,它们由真空室的一部分和保护壳完全包围。该离子电镀装置在基体材料支持构件上安装玻璃板等基体材料后,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空成膜方法,在设置于真空室内且流路内流入规定的载热溶液的基体材料支持构件上安装基体材料,使所述真空室内保持实质上的真空状态,在所述真空室的内部,从2个或2个以上的蒸发源使蒸发材料蒸发,以规定的顺序使该蒸发的所述蒸发材料扩散到所述真空室的内部,使该扩散的所述蒸发材料蒸镀在所述基体材料的蒸镀面上,使由所述蒸发材料构成的多层膜在所述基体材料的蒸镀面上形成,其特征在于,    将防冻溶液用作流入所述基体材料支持构件具备的流路内的所述规定的载热溶液。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:能势功一山辺真一床本勲堀崇展生水出淳史近藤隆彦
申请(专利权)人:新明和工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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