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本发明的真空成膜方法以及装置，在设在真空室（１）内且流路（７ｆ）、（７ｇ）、（７ｉ）内流入规定的载热溶液的基体材料支持构件（６ａ）上安装基体材料，使所述真空室内保持实质上的真空状态，在所述真空室的内部，从２个或２个以上的蒸发源使蒸发材料蒸发...
该专利属于新明和工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过新明和工业株式会社授权不得商用。

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