【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于校正光强度分布的光学系统,更具体地说,本专利技术涉及一种用于将发散光的强度分布校正为均匀分布的光学系统。
技术介绍
光学显微镜的一个实例是共焦显微镜。共焦显微镜能够获得样品的切片图像,而无需将样品制成切片部分,并且能够由该切片图像构成样品的准确三维图像。因此,共焦显微镜例如用于生物学和生物工程学领域中对活体细胞的生理反应观察和形态观察,或者用于半导体领域中对LSI(大规模集成电路)的表面观察。在这种共焦显微镜中,由激光生成多个射束点,以便利用这些射束点照射样品,并且根据来自样品的荧光或者反射光观察样品。在这种情况下,激光强度的分布不均匀性(获得了相对于与光轴垂直的平面的高斯分布)会影响各射束点的强度。因此,为了在激光的光轴附近仅获得均匀的光通量,设置具有片窗的片窗板,并且仅使用通过该片窗板的光束。另外,还公开了一种共焦扫描仪,在该共焦扫描仪中,将光强度分布校正滤光器放置在准直透镜与片窗板之间,该准直透镜将从光纤末端发出的发散光变为平行光(例如参见JP-A-2001-228402)。该光强度分布校正滤光器使得具有高斯光强度分布的入射光中通过 ...
【技术保护点】
一种将入射光的强度分布校正为平坦的强度分布的光学系统,所述光学系统包括:第一透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有正折射率;第二透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有负折射率,在入射光方向上所述第二透镜组位于所述第一透镜组之后; 以及第三透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有正折射率,在入射光方向上所述第三透镜组位于所述第二透镜组之后。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:田名纲健雄,杉山由美子,
申请(专利权)人:横河电机株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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