表面清洗改质方法以及表面清洗改质装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种表面清洗改质方法以及表面清洗改质装置。这种方法在擦洗工序中加入自身清洗工序。擦洗工序是这样进行的：在使塑料光学部件（１）旋转的同时，一边使弹性研磨体（２３１）旋转，一边使其压接在塑料光学部件（１）的表面上，并把含有研磨剂的料浆（Ｌ）供应给塑料光学部件（１）表面与弹性研磨体（２３１）之间，清洗塑料光学部件（１）。自身清洗工序是这样进行的：一边使弹性研磨体（２３１）旋转，一边把含有研磨剂的料浆Ｌ供应给弹性研磨体（２３１），同时使弹性研磨体（２３１）压接在压接部（２２１）上而变形，清洗弹性研磨体（３２１）本身。借助于这种方法，在通过研磨剂研磨塑料光学部件并清洗过程中，不会在塑料光学部件的表面残留污垢，并且不会留下较深的划痕。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种表面清洗改质方法以及表面清洗改质装置，其能有效地清洗塑料镜片等的塑料光学部件的表面。
技术介绍
塑料光学部件由于柔软，因而具有容易擦伤的缺点。因此，进行形成赋予表面耐擦伤性的硬膜(hard coat)的处理，进一步，进行在硬膜上形成反射防止膜的处理，以提高塑料光学部件的性能和功能。特别是，在塑料眼镜的镜片中，为了提高镜片表面的硬度、与蒸镀膜之间的密合性以及赋予染色性，形成硬膜则是一种不可欠缺的表面处理。作为形成硬膜的预处理，为了除掉附着在塑料光学部件表面的灰尘、污垢，使硬膜与基体材料充分地反应，就必须进行使塑料光学部件表面清洁的清洗工序。如果在清洗工序中清洗得不够充分，则对塑料光学部件表面的外观和耐久品质产生影响，并降低成品率。因此，作为前处理的清洗工序是一个重要的工序。以往，作为塑料光学部件的清洗方法，大都使用浸渍式清洗装置，对附着在光学部件表面上的污垢进行溶解或者剥离。与此相对，在日本特开平5-70615号公报、日本特开平11-48117号公报中，提出了一种擦洗(scrub cleaning)方法一边用弹性研磨体擦光学部件的表面，一边供应将把研磨剂已分散在水中的料浆；或者一边使水流过光学部件的表面，一边使用分散有研磨剂的弹性研磨体进行擦拭，从而用研磨剂来研磨光学部件的表面。这种擦洗方法是一种表面清洗和改质方法，其通过利用研磨剂对塑料光学部件的表面进行物理研磨，从而能够消除附着在表面的污垢以及在成形阶段或者在成形后由于劣化等而形成的不均质表面。其结果，能够防止起因于污垢的凹陷(はじき)等外观上的缺点，并且，由于硬膜与光学部件的表面不受非均质层的阻碍而能够充分地紧密接触并结合在一起，因而提高了密合性。而且，通过研磨所造成的表面活性化和细微的研磨划痕所产生的固定(anchor)效果，提高了硬膜的密合性。但是，上述擦洗方法，在清洗塑料光学部件之后，有时会发生在弹性研磨体上残留污垢或异物的情况。如果使用附着有这些污垢或异物的弹性研磨体来清洗塑料光学部件，则污垢或异物会转移到塑料光学部件的表面上去，或者会在表面上产生较深的擦伤。存在于塑料光学部件的表面上的污垢、异物以及较深的擦伤，就成了降低硬膜形成处理的成品率的原因。
技术实现思路
本专利技术就是鉴于上述问题而提出来的，其目的是提供一种表面清洗改质方法以及表面清洗改质装置，这种方法和装置在用弹性研磨体通过研磨剂进行研磨、清洗塑料光学部件的过程中，不会在塑料光学部件的表面上残留污垢，并且不会留下深的划痕。为达到上述目的，本专利技术的第一方面的表面清洗改质方法，其特征在于，具有擦洗工序，使塑料光学部件旋转，并且使弹性研磨体一边旋转，一边压接在上述塑料光学部件的表面上，同时将把研磨剂已分散在液体中的料浆供应给上述塑料光学部件表面与上述弹性研磨体之间，清洗上述塑料光学部件；和自身清洗工序，一边使上述弹性研磨体旋转，一边将把研磨剂已分散在液体中的料浆供应给上述弹性研磨体，同时使上述弹性研磨体变形，清洗上述弹性研磨体。在擦洗工序中，用弹性研磨体通过研磨剂对塑料光学部件进行擦洗，而在自身清洗工序中，对用于清洗的弹性研磨体本身进行清洗，能把附着在弹性研磨体上的污垢和异物清洗掉。通过进行自身清洗工序，能防止污垢和异物从弹性研磨体再次附着在塑料光学部件上。此外，借助于进行自身清洗工序，还能防止弹性研磨体干燥。因而，就能防止用干燥的弹性研磨体来清洗塑料光学部件，从而在清洗过程中不产生较深的划痕。本专利技术的第二方面，在上述本专利技术的第一方面的表面清洗改质方法中，其特征在于，通过上述弹性研磨体与压接部的互相压接，使上述弹性研磨体变形，进行自身清洗。由于借助于压接部与弹性研磨体互相压接，使弹性研磨体产生较大的变形，从而能有效地使弹性研磨体进行自身清洗。本专利技术的第三方面，在本专利技术的第一方面的表面清洗改质方法中，其特征在于，上述擦洗工序与自身清洗工序交替地进行。由于在擦洗工序之间进行了自身清洗工序，因此始终能用清洗后的弹性研磨体来进行擦洗工序，所以不会在塑料光学部件上残留污垢，并且在清洗过程中，不会产生较深的划痕。本专利技术的第四方面的表面清洗改质方法，其特征在于，具有擦洗工序，使塑料光学部件旋转，并且使分散有研磨剂的弹性研磨体一边旋转，一边压接在上述塑料光学部件的表面上，同时将把水供应给上述塑料光学部件表面与上述弹性研磨体之间，清洗上述塑料光学部件；和自身清洗工序，一边使上述弹性研磨体旋转，一边把水供应给上述弹性研磨体，同时使上述弹性研磨体变形，清洗上述弹性研磨体。在擦洗工序中，用弹性研磨体通过研磨剂对塑料光学部件进行擦洗，而在自身清洗工序中，对用于清洗的弹性研磨体本身进行清洗，能把附着在弹性研磨体上的污垢和异物清洗掉。通过进行自身清洗工序，能防止污垢和异物从弹性研磨体再次附着在塑料光学部件上。此外，借助于进行自身清洗工序，还能防止弹性研磨体干燥。因而，就能防止使用干燥的弹性研磨体来清洗塑料光学部件，从而能在清洗过程中不产生较深的划痕。本专利技术的第五方面，在本专利技术第四方面的表面清洗改质方法中，其特征在于，通过上述弹性研磨体与压接部的互相压接，使上述弹性研磨体变形，进行自身清洗。由于借助于压接部与弹性研磨体互相压接，使弹性研磨体产生较大的变形，从而能有效地使弹性研磨体进行自身清洗。本专利技术的第六方面，在本专利技术的第四方面的表面清洗改质方法中，其特征在于，上述擦洗工序与自身清洗工序交替地进行。由于在擦洗工序之间进行了自身清洗工序，因此始终能用清洗后的弹性研磨体来进行擦洗工序，所以不会在塑料光学部件上残留污垢，并且在清洗过程中，不会产生较深的划痕。本专利技术的第七方面的表面清洗改质装置，其特征在于，包括光学部件保持部，其保持塑料光学部件并使其旋转；压接部，其设置成与上述光学部件保持部分离；研磨体保持部，其保持弹性研磨体并使其旋转；操作部，其使上述光学部件保持部和/或上述研磨体保持部进行工作，以进行使上述弹性研磨体压接在上述塑料光学部件上的清洗工作和使上述弹性研磨体压接在上述压接部上的自身清洗工作；以及液体供应部，其把液体供应给正在进行上述清洗工作和上述自身清洗工作的上述弹性研磨体。擦洗工序是这样进行的在用光学部件保持部保持着塑料光学部件并使其旋转的同时，用研磨体保持部保持着弹性研磨体并使其旋转，并且一边由液体供应部供应液体，一边用操作部把弹性研磨体压接在塑料光学部件的表面上，进行清洗塑料光学部件。此外，自身清洗工序是这样进行的一边由液体供应部供应液体，一边用操作部把由研磨体保持部而旋转的弹性研磨体压接在压接部上，清洗上述弹性研磨体。本专利技术的第八方面，在本专利技术的第七方面的表面清洗改质装置中，其特征在于，上述操作部使上述清洗工作和上述自身清洗工作交替地进行。通过在两个擦洗工序之间进行自身清洗工序，能始终用洁净的弹性研磨体来进行擦洗工序，所以不会在塑料光学部件上残留污垢，并且在清洗过程中，不会产生很深的划痕。本专利技术的第九方面，在本专利技术的第七方面的表面清洗改质装置中，其特征在于，上述液体供应部供应把研磨剂已分散在液体中的料浆。借助于向塑料光学部件的表面供应把研磨剂分散在液体中的料浆，就能通过研磨剂对塑料光学部件的表面进行研磨并改质。本专利技术的第十方面，在本专利技术的第七方面的表面清洗改质装置中，其特征在于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面清洗改质方法，其特征在于，具有：擦洗工序，使塑料光学部件旋转，并且使弹性研磨体一边旋转，一边压接在上述塑料光学部件的表面上，同时将把研磨剂已分散在液体中的料浆供给到上述塑料光学部件表面与上述弹性研磨体之间，清洗上述塑料光学部 件；和自身清洗工序，一边使上述弹性研磨体旋转，一边将把研磨剂已分散在液体中的料浆供应给上述弹性研磨体，同时使上述弹性研磨体变形，清洗上述弹性研磨体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：细田隆志，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]