【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，属于光学加工与测试领域。
技术介绍
在精密光学系统中光学元件的中高频误差对元件的质量影响越来越受到关注，需要对元件表面的频率进行评价和限制。不同的工艺参数设定对镜面频谱分布的影响差别很大。研究加工中各种工艺参数对镜面表面的误差频率的影响可以为进一步完善大口径非球面镜面加工工艺提供理论基础。目前国内外研究光学元件的加工技术主要集中在以峰谷值和均方根值两项指标为导向提高相应加工技术的误差收敛能力上，从元件制造误差的垂直量角度来考虑如何提高光学元件的加工质量，对于如何控制水平方向加工误差，即如何确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的关系尚属空白。美国劳伦斯·利夫摩尔国家实验室在“国家点火装置(National lgnitionFacility-NIF)”的研制过程中，根据光学元件的口径、自适应光学校正技术和空间滤波器的设计原则，按照空间频率的不同将光学元件的制造误差具体分为高、中、低三段。他们提出了评价光学元件表面质量和制造误差的新方法，即用波前功率谱密度来确定不同频段误差的含量，但未提出如何确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的关系。波前功率谱密度...
【技术保护点】
确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法，其特征在于通过以下步骤完成：（１）记录光学元件加工的工艺参数，包含加工工具的性能、形状及运动方式，并对元件进行加工；（２）通过光学元件制造误差检测装置采用通用检测方式获得被检光学元件 的制造误差数据；（３）利用最小二乘法对元件制造误差数据消除趋势项，根据滤波器设计原则设计滤波器，并对前述数据做剔除噪声、滤波等数据预处理工作；（４）确定所测数据的最大空间频谱范围与有效空间频谱范围，最大空间频谱范围：１／Ｌ＜ ｆ＜Ｎ／（２Ｌ），有效空间频率宽度：２／Ｌ＜ｆ＜Ｎ／（４Ｌ）；式中：...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈伟，姚汉民，伍凡，万勇建，范斌，朋汉林，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]
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