光学薄膜制造技术

本发明专利技术提供由含有以下述通式（Ⅰ）所示的三嗪化合物的树脂构成的光学薄膜，该光学薄膜是对波长３８０ｎｍ的紫外线的吸收能优异、渗出少的光学薄膜。通式（Ⅰ）中，Ｒ↑［１］～Ｒ↑［６］各自独立地表示氢原子、羟基、选自碳原子数为１８以下的烷基、烷氧基、二烷基氨基、烷基羰氧基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳烷基氧基、芳基羰氧基中的有机基团。其中，这些有机基团的烷基部分可以被羟基、卤原子、氰基、硝基取代，可以插入氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基、酰亚胺基，可以具有双键，也可以组合上述取代、插入、双键。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含有特定的紫外线吸收剂而成的树脂制光学薄膜，本专利技术的光学薄膜特别使用在用于液晶显示装置等中的偏振片保护薄膜、相位差薄膜、视野角扩大薄膜、光学补偿薄膜、用于等离子显示器中的防反射薄膜等各种功能薄膜、有机EL显示器的光学补偿薄膜、发光体保护薄膜等中。
技术介绍
树脂由于比玻璃质量轻，因此除了光学透镜之外，还被使用在棱镜、光纤维或各种光学薄膜等非常多的光学领域中。但是，在树脂制薄膜中存在有由紫外线导致的强度降低或由变色引起的透明度降低的问题，在光学薄膜的用途中该问题有显著影响。因此，在光学薄膜中使用苯并三唑类化合物或三嗪类化合物之类的紫外线吸收剂。例如在日本特开2002-249600号公报(参照权利要求2、段落 、 、 )、日本特开2001-324616号公报(参照权利要求2、段落 、 、 )中报道了含有紫外线吸收剂而成的降冰片烯类树脂薄膜。但是，由于以往的紫外线吸收剂的吸收偏于低波长侧，在380nm处的吸收不充分，因此如果配合赋予所需吸收能的量，则会发生渗出或色调变化。在日本特开平11-71356号公报(参照权利要求1、段落 ～ 、段落 ～ )中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学薄膜，其由含有以下述通式（Ⅰ）所示的三嗪化合物的树脂构成；＊＊＊（Ⅰ）　式中，Ｒ↑［１］～Ｒ↑［６］各自独立地表示氢原子、羟基、选自碳原子数为１８以下的烷基、烷氧基、二烷基氨基、烷基羰氧基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳烷 基氧基、芳基羰氧基中的有机基团，其中，这些有机基团的烷基部分可以被羟基、卤原子、氰基、硝基取代，可以插入氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基、酰亚胺基，可以具有双键，也可以组合上述取代、插入、双键。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：根岸由典，石川慎一，飞田悦男，绫部敬士，
申请(专利权)人：株式会社艾迪科，
类型：发明
国别省市：JP[日本]