一种冷却装置及立式炉系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种冷却装置及立式炉系统，该冷却装置包括：供液装置、回液装置以及多个盘管，其中，所述盘管均沿竖直方向自立式炉体的顶部至底部布置在所述立式炉体的外壁上，所述盘管的进液口位于所述立式炉体的顶部，所述盘管的出液口位于所述立式炉体的底部；所述供液装置位于所述立式炉体的顶部，且分别与各个所述盘管的进液口相连，用于向各个所述盘管中输送冷却液；所述回液装置位于所述立式炉体的底部，且分别与各个所述盘管的出液口相连，用于回收从所述盘管中流出的冷却液。通过本发明专利技术，可以达到为立式炉体快速降温的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种冷却装置及立式炉系统
本专利技术涉及半导体制造领域，具体地，涉及一种冷却装置及立式炉系统。
技术介绍
目前，随着大规模集成电路、太阳能电池、平板显示器及材料表面改性等
的迅速发展，近年来迫切需要发展硅片工艺处理设备，而立式氧化炉、立式LPCVD炉以及立式退火炉等立式炉体工艺处理设备日趋增多，同时对立式炉体设备的生产节拍及工艺性提出更高的要求；例如，当炉体快速升降温时，如何减少工艺前后准备时间以及使炉体四周温度更加均匀。目前，对立式炉的冷却与冰箱冷却方式相同，一般采用波浪状曲线的布管方式，整个炉壁四周布满了冷却水管，冷却水管有一个进水口和一个出水口，冷区水从进水口进入冷却水管后环绕炉壁一周后由出水口排出，通过流动中的热交换达到冷却的目的。这种冷却方式冷却水流速慢、冷却速度慢，压力损失大、冷却均匀性也较差，流量可调范围小。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种冷却装置及立式炉系统。为实现本专利技术的目的而提供一种冷却装置，包括：供液装置、回液装置以及多个盘管，其中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种冷却装置，其特征在于，包括：供液装置、回液装置以及多个盘管，其中，/n所述盘管均沿竖直方向自立式炉体的顶部至底部布置在所述立式炉体的外壁上，所述盘管的进液口位于所述立式炉体的顶部，所述盘管的出液口位于所述立式炉体的底部；/n所述供液装置位于所述立式炉体的顶部，且分别与各个所述盘管的进液口相连，用于向各个所述盘管中输送冷却液；/n所述回液装置位于所述立式炉体的底部，且分别与各个所述盘管的出液口相连，用于回收从所述盘管中流出的冷却液。/n

【技术特征摘要】
1.一种冷却装置，其特征在于，包括：供液装置、回液装置以及多个盘管，其中，
所述盘管均沿竖直方向自立式炉体的顶部至底部布置在所述立式炉体的外壁上，所述盘管的进液口位于所述立式炉体的顶部，所述盘管的出液口位于所述立式炉体的底部；
所述供液装置位于所述立式炉体的顶部，且分别与各个所述盘管的进液口相连，用于向各个所述盘管中输送冷却液；
所述回液装置位于所述立式炉体的底部，且分别与各个所述盘管的出液口相连，用于回收从所述盘管中流出的冷却液。


2.根据权利要求1所述的冷却装置，其特征在于，所述盘管的形状为连续弯折的曲线形状。


3.根据权利要求1所述的冷却装置，其特征在于，所述盘管沿所述立式炉体的周向均匀地分布在所述立式炉体的外壁上。


4.根据权利要求1所述的冷却装置，其特征在于，所述供液装置包括：主进液管、一级液体分散器、多个一级支进液管，其中，
所述主进液管位于所述立式炉体的顶部，其一端与供液源相连，另一端通过所述一级液体分散器与所述多个一级支进液管相连；
所述多个一级支进液管与多个所述盘管一一对应，每一所述一级支进液管连接一个所述盘管。


5.根据权利要求1所述的冷却装置，其特征在于，所述供液装置包括：主进液管、一级液体分散器、多个一级进液管、多个二级液体分散器、多个二级支进液管，...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫士泉，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11