一种全折射式投影光学系统技术方案

本发明专利技术公开了一种折射式投影光学系统，采用全折射式的结构，避免使用转折棱镜和较大的球面反射镜，降低了加工和装配的难度；该折射式投影光学系统具有较长的物方和像方工作距，降低了实际使用过程中对工件台和掩模台设计空间的约束；该折射式投影光学系统均采用紫外高透过率光学材料校正ｇｈｉ三线的二级光谱，实现了较高的透过率，同时较好地校正了色差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学系统，尤其涉及一种全折射式投影光学系统。技术背景随着投影光学技术的发展，投影光学系统的性能逐步提高，并可以适用于 集成电路制造等多种领域。现已将投影光刻技术成功应用于亚微米分辨率集成 电路制造领域。在半导体封装技术中，投影光刻技术应用于相对较低的分辨率 (如几微米)、较大的焦深、较高产率的金凸块/锡凸块、硅片级芯片尺寸封装(WLCSP)技术等领域。在现有技术中，如美国专利US 6,879,383，B2和5,559,629所描述的两种折 反射式投影光学系统均采用了两块转折棱镜和一块较大孔径的球面反射镜实现 宽带宽ghi线(波长360nm-440nm)的色差校正，转折棱镜和较大孔径的反射 镜的加工要求及其严格，并且装配精度极高，给实际工程加工和装配带来极大 的困难；另外上述两个专利所描述的两种折反射投影光学系统的工作距较短， 在实际应用过程中给工件台、尤其是掩模台的设计带来较严格的限制。中国专利CN 101021607A中描述的一种折射式双远心投影光学系统应用在 紫外光谱范围内，其光学结构中采用了一些非紫外高透过率的玻璃材料(如 NKZFS11和NBAK1 )本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全折射式投影光学系统，其特征在于：从物面到像面依次排列第一镜片组、第二镜片组、光阑、第三镜片组、第四镜片组；所述第一与第四镜片组、第二与第三镜片组分别相对于所述光阑对称；所述第一镜片组具有正光焦度，其包括从物面到像面依次排列的透镜一、透镜二、透镜三、透镜四，其中，透镜一为双凹透镜，透镜二为凹面朝向物面的负弯月透镜，透镜三为凹面朝向物面的正弯月透镜，透镜四是正透镜；所述第二镜片组具有正光焦度，其包括从物面到像面依次排列的透镜五、透镜六、透镜七、透镜八。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：储兆祥，黄玲，李铁军，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]