一种拉晶炉制造技术

技术编号:26627591 阅读:38 留言:0更新日期:2020-12-08 15:27
本实用新型专利技术实施例提供一种拉晶炉,包括:炉体,炉体内限定有腔室,炉体的顶部设有与腔室连通的拉晶口;设在支撑件上的坩埚,坩埚和支撑件位于腔室中;套设在坩埚的外周的保温罩,保温罩的底端与炉体的底壁内侧相连,保温罩的上端与炉体的顶壁内侧间隔开,保温罩与炉体的侧壁间隔开设置以限定出导气通道,炉体的侧壁上设有排气口,排气口与导气通道连通;导流结构设置于导气通道中,导流结构套设在保温罩的外侧。在导气通道中设置导流结构能够引导气流在导气通道中流动,延长气流的流动路径,使得气流中的挥发物沉积在导流结构上,减少挥发物沉积在炉壁上,避免挥发物沉积在管道和真空泵中导致堵塞管道和真空泵的过滤网或污染真空泵油。

【技术实现步骤摘要】
一种拉晶炉
本技术涉及拉晶炉
,具体涉及一种拉晶炉。
技术介绍
目前单晶硅行业中主要采用Czochraslski法(简称CZ法)生长单晶硅,热场对单晶硅的质量有很大影响,合适的热场能够生长出高质量的单晶。在拉晶过程中,从拉晶口通过的气流从硅熔体液面经过后,携带着拉晶过程中产生的废气(氩气及挥发物)经排气孔沿着炉壁的气流通道,通过管道被真空泵抽走。坩埚附近的上部排气热场存在保温性能差且使用过后污染严重的问题,由于气流要经过单晶炉的炉壁,由气流带出的许多挥发物(比如硅氧化物)会残留在炉壁上面,会损坏炉壁,在生产过程中,通过抽真空的排气方式将气流直接抽走,气流快速从排气孔流出,气体在气流通道中停留时间短,气流中的挥发物易沉积在管道和真空泵中导致堵塞管道和真空泵的过滤网或者污染真空泵油。
技术实现思路
有鉴于此,本技术提供一种拉晶炉,用以解决气流带出的许多挥发物易残留在炉壁上损坏炉壁,气体在气流通道中流动路径和时间短,气流中的挥发物易沉积在管道和真空泵中导致堵塞管道和真空泵的过滤网或者污染真空泵油的问题。为解决上述技术问题,本技术采用以下技术方案:根据本技术实施例的拉晶炉,包括:炉体,所述炉体内限定有腔室,所述炉体的顶部设有与所述腔室连通的拉晶口;坩埚和支撑件,所述坩埚设在所述支撑件上,所述坩埚和所述支撑件位于所述腔室中;保温罩,所述保温罩套设在所述坩埚的外周,且所述保温罩的底端与所述炉体的底壁内侧相连,所述保温罩的上端与所述炉体的顶壁内侧间隔开,所述保温罩与所述炉体的侧壁间隔开设置以限定出导气通道,所述炉体的侧壁上设有排气口,所述排气口与所述导气通道连通;至少一个导流结构,所述导流结构设置于所述导气通道中,所述导流结构为螺旋状,所述导流结构套设在所述保温罩的外侧。其中,还包括:导流筒,所述导流筒的上端设置于所述拉晶口中,所述导流筒的下端位于所述坩埚的上方。其中,所述炉体的侧壁内侧设有保温层,所述保温罩与所述保温层间隔开设置以限定出所述导气通道。其中,每个所述导流结构的外侧止抵所述炉体的内侧壁,每个所述导流结构的内侧止抵所述保温罩的外侧壁。其中,所述导流结构具有多个,多个所述导流结构沿所述导气通道的长度方向间隔开设置。其中,每个所述导流结构上分别设有用于吸收储存气流中热量的储热器。其中,所述导流结构的纵截面为L型或U型。其中,每个所述导流结构的上侧面或/和下侧面上设有扰流结构。其中,还包括:加热器,所述加热器设置于所述坩埚的外周,且位于所述坩埚与所述保温罩之间。其中,所述炉体的顶壁内侧和所述炉体的底壁内侧分别设有保温层。本技术的上述技术方案的有益效果如下:根据本技术实施例的拉晶炉,所述炉体内限定有腔室,所述炉体的顶部设有与所述腔室连通的拉晶口,所述坩埚设在所述支撑件上,所述支撑件位于所述腔室中,所述保温罩套设在所述坩埚的外周,且所述保温罩的底端与所述炉体的底壁内侧相连,所述保温罩的上端与所述炉体的顶壁内侧间隔开,所述保温罩与所述炉体的侧壁间隔开设置以限定出导气通道,所述炉体的侧壁上设有排气口,所述排气孔与所述导气通道连通,所述导流结构设置于所述导气通道中,所述导流结构为螺旋状,所述导流结构套设在所述保温罩的外侧。通过在导气通道中设置导流结构能够引导气流在导气通道中流动,延长气流的流动路径,延长气流的流出时间,使得气流中的挥发物能够沉积在导流结构上,减少挥发物沉积在炉壁上,减少挥发物对炉壁的损坏,避免气流中的挥发物沉积在管道和真空泵中导致堵塞管道和真空泵的过滤网或者污染真空泵油。附图说明图1为本技术实施例的拉晶炉的一个结构示意图;图2为导流结构与保温罩配合的一个示意图;图3为导流结构与保温罩配合的另一个示意图;图4为导流结构与保温罩配合的又一个示意图;图5为导流结构的一个结构示意图。附图标记炉体10;腔室11;导气通道12;排气口13;导流筒14;坩埚20;支撑件21;保温罩30;导流结构40;储热器41;扰流结构42;保温层50;加热器60;电极61。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例的附图,对本技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本技术的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。下面具体描述根据本技术实施例的拉晶炉。如图1所示,根据本技术实施例的拉晶炉包括炉体10、坩埚20、支撑件21、保温罩30和至少一个导流结构40,其中,炉体10内限定有腔室11,炉体10的顶部设有与腔室11连通的拉晶口,坩埚20设在支撑件21上,坩埚20和支撑件21位于腔室11中,支撑件21可以旋转,通过支撑件21可以带动坩埚20旋转,以便于坩埚受热均匀。可以在炉体的顶部通过压环设置保温盖,减少热量从顶部散失。保温罩30套设在坩埚20的外周,且保温罩30的底端与炉体10的底壁内侧相连,保温罩30的上端与炉体10的顶壁内侧间隔开,保温罩30与炉体10的侧壁间隔开设置以限定出导气通道12,炉体10的侧壁上设有排气口13,排气口13与导气通道12连通,导流结构40设置于导气通道12中,导流结构40为螺旋状,导流结构40套设在保温罩30的外侧。也就是说,拉晶炉主要由炉体10、坩埚20、支撑件21、保温罩30和至少一个导流结构40构成,炉体10内可以限定有腔室11,腔室11可以为柱状,腔室11的轴线与炉体10的轴线可以共线,炉体10的顶部设有与腔室11连通的拉晶口,通过拉晶口可生长晶棒。坩埚20和支撑件21位于腔室11中,坩埚20设在支撑件21上,保温罩30可以为筒状,保温罩30可以套设在坩埚20的外周,减少坩埚20中热量的散失,且保温罩30的底端与炉体10的底壁内侧相连,保温罩30的上端与炉体10的顶壁内侧间隔开,使得坩埚20中流出的气流能够通过保温罩30的上端与炉体10的顶壁内侧的间隔位置流出。保温罩30与炉体10的侧壁间隔开设置以限定出导气通道12,坩埚20中流出的气流流经导气通道12,炉体10的侧壁上设有排气口13,排气口13与导气通道12连通,导气通道12中的气流从排气口13排出。在导气通道12中设置至少一个导流结构40,导流结构40可以为螺旋状,导流结构40套设在保温罩30的外侧,通过导流结构40使得导气通道12中的气流沿着导流结构40流动,最终从排气口13排出,通过在导气通道12中设置导流结构能够引导气流在导气通道12中流动,延长气流的流动路径,延长气流的流出时间,使得气流中的挥发物(比如硅氧化物)能够沉积在导流结构40上,减少挥发物沉积在炉壁上,减少挥发物对炉壁的损坏,避免气流中的挥发物沉积在管道和真空泵中导致堵塞管道和真本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种拉晶炉,其特征在于,包括:/n炉体,所述炉体内限定有腔室,所述炉体的顶部设有与所述腔室连通的拉晶口;/n坩埚和支撑件,所述坩埚设在所述支撑件上,所述坩埚和所述支撑件位于所述腔室中;/n保温罩,所述保温罩套设在所述坩埚的外周,且所述保温罩的底端与所述炉体的底壁内侧相连,所述保温罩的上端与所述炉体的顶壁内侧间隔开,所述保温罩与所述炉体的侧壁间隔开设置以限定出导气通道,所述炉体的侧壁上设有排气口,所述排气口与所述导气通道连通;/n至少一个导流结构,所述导流结构设置于所述导气通道中,所述导流结构为螺旋状,所述导流结构套设在所述保温罩的外侧。/n

【技术特征摘要】
1.一种拉晶炉,其特征在于,包括:
炉体,所述炉体内限定有腔室,所述炉体的顶部设有与所述腔室连通的拉晶口;
坩埚和支撑件,所述坩埚设在所述支撑件上,所述坩埚和所述支撑件位于所述腔室中;
保温罩,所述保温罩套设在所述坩埚的外周,且所述保温罩的底端与所述炉体的底壁内侧相连,所述保温罩的上端与所述炉体的顶壁内侧间隔开,所述保温罩与所述炉体的侧壁间隔开设置以限定出导气通道,所述炉体的侧壁上设有排气口,所述排气口与所述导气通道连通;
至少一个导流结构,所述导流结构设置于所述导气通道中,所述导流结构为螺旋状,所述导流结构套设在所述保温罩的外侧。


2.根据权利要求1所述的拉晶炉,其特征在于,还包括:
导流筒,所述导流筒的上端设置于所述拉晶口中,所述导流筒的下端位于所述坩埚的上方。


3.根据权利要求1所述的拉晶炉,其特征在于,所述炉体的侧壁内侧设有保温层,所述保温罩与所述保温层间隔开设置以限定出所述导气通道。


...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨帅军雷卫娜
申请(专利权)人:西安奕斯伟硅片技术有限公司
类型:新型
国别省市:陕西;61

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1