闪烁元件、闪烁阵列及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种闪烁元件，其包含闪烁材料和反射层，其中所述反射层以所述闪烁材料的内在部分形成。优选地，可设置多个闪烁元件以形成闪烁阵列。本发明专利技术还提供闪烁元件的制备方法，其包括提供闪烁材料，通过将所述闪烁材料暴露于物理和／或化学条件下以使得由所述闪烁材料的一部分形成反射层而在闪烁材料上形成反射层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及闪烁元件、闪烁阵列、闪烁元件的制备方法和闪烁阵列的制备方法，特别地，涉及可用于计算机X射线层析照相(CT)领域中的闪烁 元件和闪烁阵列。
技术介绍
在计算机X射线层析照相(CT)中，目前将荧光陶瓷Gd202S:Pr，Ce(GOS) 用作闪烁器材料以将x射线光子转换为可见光。GOS具有高光产率和吸收 效率的优点，但是一般地在辐射后会显示余辉信号。该余辉具有信号作用， 其非常高并且持续时间长以致于重构图象受严重的假相(artefacts)的影响。 陶瓷片的适当的后处理，例如，通过在空气中退火数小时，可以减少这样 的余辉。除了余辉之外，光产率的问题是对于CT应用最为重要的。在传 统的CT检测器中，使用反射涂布材料，其在五个侧面覆盖每个CT检测器 像素(pixel)，从而增加位于第六侧面的光敏光电二极管上的光碰撞的量。
技术实现思路
期望提供一种有效的，其中闪烁元 件和闪烁阵列可用于计算机X射线层析照相领域中。该需求可以通过根据独立权利要求的闪烁元件、闪烁阵列、闪烁元件 的制备方法和闪烁阵列的制备方法而实现。根据一个示例性实施方式，提供一种闪烁元件，其包含闪烁材料和反 射层，其中本文档来自技高网...

【技术保护点】
闪烁元件，其包含闪烁材料和反射层，其中所述反射层以所述闪烁材料的内在部分形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：G蔡特勒，H施赖讷马赫尔，CR龙达，N康拉茨，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]