受光元件以及受光元件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种受光元件，其具备：具有包含受光部和遮光部的第一面的半导体部；以及设置于所述遮光部上的用于遮光的金属膜，所述金属膜具有面向与所述第一面相反一侧且接受光的入射的第二面，在所述第二面形成有多个凹部，所述凹部的内表面包含以沿所述第二面的方向的所述凹部的尺寸随着从所述第二面朝向所述凹部的底部而缩小的方式弯曲的曲面部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】受光元件以及受光元件的制造方法
本专利技术的一个方面涉及一种受光元件、以及受光元件的制造方法。
技术介绍
专利文献1公开了一种光导型红外线检测器。该检测器相对于吸收红外线的晶体设置遮光掩模。在遮光掩模设置有提供受光部的开口。另外，在遮光掩模上形成有周期性的凹凸。并且，该凹凸的间隔以及台阶差所涉及的参数以满足相对于从遮光掩模直接回到成像装置的光学系统的红外线互相削弱的干涉条件的方式设定。专利文献2公开了一种半导体受光装置。该受光装置具备：n型InP基板；形成于n型InP基板上的n型InP层；形成于n型InP层上的p型InP层；以在p型InP层的一部分开口的方式形成于p型InP层上的电介质膜；以及形成于电介质膜上且将向受光部以外入射的光遮光的遮光掩模用的金属层。在金属层的表面形成有凹凸。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平4-84462号公报专利文献2：日本专利第2774006号公报
技术实现思路
专利技术想要解决的技术问题在专利文献1中公开的检测器中，通过将遮光掩模本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种受光元件，其特征在于，/n具备：/n具有包含受光部和遮光部的第一面的半导体部；以及/n设置于所述遮光部上的用于遮光的金属膜，/n所述金属膜具有面向与所述第一面相反一侧且接受光的入射的第二面，/n在所述第二面形成有多个凹部，/n所述凹部的内表面包含以沿所述第二面的方向的所述凹部的尺寸随着从所述第二面朝向所述凹部的底部而缩小的方式弯曲的曲面部。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180418 JP 2018-0800001.一种受光元件，其特征在于，
具备：
具有包含受光部和遮光部的第一面的半导体部；以及
设置于所述遮光部上的用于遮光的金属膜，
所述金属膜具有面向与所述第一面相反一侧且接受光的入射的第二面，
在所述第二面形成有多个凹部，
所述凹部的内表面包含以沿所述第二面的方向的所述凹部的尺寸随着从所述第二面朝向所述凹部的底部而缩小的方式弯曲的曲面部。


2.根据权利要求1所述的受光元件，其特征在于，
所述曲面部以构成所述底部的方式延伸。


3.根据权利要求2所述的受光元件，其特征在于，
所述第二面的所述凹部的尺寸为交叉于所述第二面的方向上的所述金属膜的尺寸以...

【专利技术属性】
技术研发人员：杉森领，田中祐马，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP