一种转盘式双面光刻机及其物料传送装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种转盘式双面光刻机及其物料传送装置，包括光刻机本体，所述光刻机本体的下端固定连接有多个行走机构，所述光刻机本体的下方设有多个支撑机构，所述光刻机本体侧壁上固定连接有斜杆，所述斜杆的上端固定连接有物料传送装置。本发明专利技术结构设计合理，具有方便移动与放置光刻机以及可以事先清洁物料，提高光刻机工作效率的好处。

【技术实现步骤摘要】
一种转盘式双面光刻机及其物料传送装置
本专利技术涉及光刻机
，尤其涉及一种转盘式双面光刻机及其物料传送装置。
技术介绍
光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序，光刻的意思是用光来制作一个图形，在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程。现有技术中，光刻机体积庞大，移动困难，需要移动的时候需要额外的吊装机器或者大量人工，非常不方便，而且现有的光刻机的物料传送装置的结构过于简单，功能单一，因此，我们提出了一种转盘式双面光刻机及其物料传送装置来解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种转盘式双面光刻机及其物料传送装置。为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种转盘式双面光刻机，包括光刻机本体，所述光刻机本体的下端固定连接有多个行走机构，所述光刻机本体的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转盘式双面光刻机，包括光刻机本体(1)，其特征在于，所述光刻机本体(1)的下端固定连接有多个行走机构，所述光刻机本体(1)的下方设有多个支撑机构，所述光刻机本体(1)侧壁上固定连接有斜杆(13)，所述斜杆(13)的上端固定连接有物料传送装置。/n

【技术特征摘要】
1.一种转盘式双面光刻机，包括光刻机本体(1)，其特征在于，所述光刻机本体(1)的下端固定连接有多个行走机构，所述光刻机本体(1)的下方设有多个支撑机构，所述光刻机本体(1)侧壁上固定连接有斜杆(13)，所述斜杆(13)的上端固定连接有物料传送装置。


2.根据权利要求1所述的一种转盘式双面光刻机及其物料传送装置，其特征在于，所述行走机构包括固定连接在光刻机本体(1)下端的行走腿(2)，所述行走腿(2)的下端设有转动槽，所述转动槽的内壁上固定连接有转轴，所述转轴上转动连接有连接板(3)，所述连接板(3)位于转动槽外的一端转动连接有万向轮(4)，所述转动槽的槽口朝向行走腿(2)外侧以及下方。


3.根据权利要求2所述的一种转盘式双面光刻机及其物料传送装置，其特征在于，所述支撑机构包括固定连接在两个行走腿(2)之间的固定杆(11)，所述固定杆(11)上固定连接有固定座(7)，所述固定座(7)的下端设有滑槽，所述滑槽内的两侧内壁分别贯穿固定座(7)的侧壁，所述滑槽内滑动设有连接杆(6)，所述连接杆(6)的侧壁上固定连接有两个支撑杆(5)，两个所述支撑杆(5)的下端均固定连接有支撑垫(9)，所述连接杆(6)的侧壁上贯穿设有限位槽(30)，所述固定座(7)的侧壁上贯穿设有两个限位孔(8)，其中一个所述限位孔(8)内贯穿设有第一限位销(10)且第一限位销(10)的尾端贯穿延伸至限位槽(30)内。


4.一种转盘式双面光刻机的物料传送装置，包括权利要求1中所述的物料传送装置，其特征在于，所述物料传送装置包括固定连接在斜杆(13)上端的传送平台(16)，所述传送平台(16)上设有多个传送辊(15)，所述传送平台(16)上固定连接有两个装置座(14)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王群，
申请(专利权)人：江苏九迪激光装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32