曝光装置及物品的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置及物品的制造方法
本专利技术涉及曝光装置及物品的制造方法。
技术介绍
当通过光刻处理制造诸如半导体设备或液晶显示设备等的设备时，使用将掩模图案的图像投影到基板并将图案转印至基板的曝光装置。曝光装置需要在掩模与基板之间进行高精度对准和焦点校准，以便将掩模图案准确地转印至基板。作为一种对准和焦点校准方法，日本特开平4-348019号公报提出了一种TTL(ThroughTheLens，通过透镜)方法，其中，经由投影光学系统来测量基板相对于掩模的相对位置或掩模图案的焦点位置。通常，在焦点校准中，在投影光学系统的光轴方向(Z方向)上移动基板侧标记(设置有基板侧标记的载台)的同时，经由投影光学系统和基板侧标记来检测通过了掩模侧标记的光，并根据光量的变化获得焦点位置。然而，在现有技术中，每次进行焦点校准时，都需要在Z方向上移动基板侧标记(载台)。这种操作需要时间，这导致生产率降低。另外，由于不能并行地进行在Z方向上移动基板侧标记的操作和实际曝光操作，因此不能获得实际曝光操作中的焦点位置(聚焦状态)。因此，即使进行焦点校准，在实际曝光操本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，所述曝光装置包括：/n投影光学系统，其被构造为将所述掩模的图案投影到所述基板上；/n测量图案，其布置在所述投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在所述投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；/n第一检测单元，其被构造为经由所述投影光学系统检测来自所述测量图案的光；以及/n控制单元，其被构造为当进行所述曝光处理时，控制所述掩模与所述基板之间在所述光轴方向上的相对位置，/n其中，控制单元基于第一光量分布和第二光量分布来控制所述相对位置，所述第一光量分布表示从所述第一检测单元的在第一定时的检测结果中获得的、通过所述多个...

【技术特征摘要】
20190522 JP 2019-0962521.一种曝光装置，其进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，所述曝光装置包括：
投影光学系统，其被构造为将所述掩模的图案投影到所述基板上；
测量图案，其布置在所述投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在所述投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；
第一检测单元，其被构造为经由所述投影光学系统检测来自所述测量图案的光；以及
控制单元，其被构造为当进行所述曝光处理时，控制所述掩模与所述基板之间在所述光轴方向上的相对位置，
其中，控制单元基于第一光量分布和第二光量分布来控制所述相对位置，所述第一光量分布表示从所述第一检测单元的在第一定时的检测结果中获得的、通过所述多个图案元素中的各个的光的光量，所述第二光量分布表示从所述第一检测单元在所述第一定时之后的第二定时的检测结果中获得的、通过所述多个图案元素中的各个的光的光量。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
从在所述第一定时布置在所述投影光学系统的基准焦点位置处的所述第一检测单元的检测结果中获得所述第一光量分布，并且
从在所述第二定时布置在所述基准焦点位置处的所述第一检测单元的检测结果中获得所述第二光量分布。


3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，所述基准焦点位置包括所述投影光学系统在所述第一定时的最佳焦点位置。


4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述控制单元通过从所述第一光量分布与所述第二光量分布之间的差获得载台在所述光轴方向上的移动量、并且将所述载台移动所述移动量，来控制所述相对位置，所述载台保持所述基板，并且所述移动量是在所述第二定时将所述基板定位在所述投影光学系统的最佳焦点位置所需的。


5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述测量图案由形成有所述多个图案元素的平板形成，并且以所述平板的法线相对于所述投影光学系统的光轴倾斜的方式布置所述测量图案，使得所述多个图案元素在所述光轴方向上具有不同的位置。


6.根据权利要求2所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：
物体平面侧图案，其布置在所述投影光学系统的所述物体平面上；

【专利技术属性】
技术研发人员：桥本明人，赤松昭郎，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP