一种大功率多波段曝光光源制造技术

本实用新型专利技术公开了一种大功率多波段曝光光源，包括多波段UV‑LED光源模组、激光光源模组、合光器、整形器件组、光学积分器和曝光组件；以多波段UV‑LED环形光斑和激光光斑耦合的方式实现台面的平行光曝光，可以实现台面不同波段的大功率输出，能够显著提升曝光的质量，还可以实现不同紫外工作波段的快速切换，对于台面不同类型光刻胶及不同曝光能量的需求具有更好的适用性。

【技术实现步骤摘要】
一种大功率多波段曝光光源
本技术涉及紫外曝光光源
，具体为一种大功率多波段曝光光源。
技术介绍
紫外曝光机，又称光刻机，是印制电路板（PCB）、柔性电路板（FPC）以及芯片制造中的核心设备，通过将预曝光图形转印到硅片上的光刻胶上实现电路板（芯片）的大规模生产，在油墨固化、半导体器件精密加工、微机电系统等领域有着极其广泛的应用，产品涉及印刷、生物、医疗、半导体、电子电路等多个行业。随着紫外曝光机在各行各业的广泛应用，多种不同规格的光刻胶应运而生，它们因为配方或原材料的差异导致不同的光刻胶对应的最敏感波长不尽相同，单一波长的曝光机使用不同光刻胶时会出现最敏感波长的不匹配，导致曝光时间延长，影响产品的生产效率，传统的以汞灯作为曝光光源的曝光机光谱范围较宽，能够覆盖紫外区域的i线（365nm）和g线（436nm）等多个典型波段，但其存在点亮慢、功耗低、热稳定性差、不环保、寿命短等缺点，UV-LED光源作为替代汞灯的新型光源，具有能耗低、瞬间点亮、光谱利用率高、稳定性好、使用寿命长、环保等优势。光源的功率直接影响台面待加工件的曝光能本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大功率多波段曝光光源，其特征在于：包括UV-LED阵列光源组件(1)、合光器(2)、整形器件组(3)、激光光源组件(4)和光学积分器(5)；/n合光器(2)：所述合光器(2)的个数为两个，两个合光器(2)左右对应，并且两个合光器(2)呈45度角倾斜放置；/nUV-LED阵列光源组件(1)：所述UV-LED阵列光源组件(1)的个数为三个，一个UV-LED阵列光源组件(1)位于合光器(2)的左侧，另两个UV-LED阵列光源组件(1)位于两个合光器(2)的正上方；/n整形器件组(3)包括凸透镜二(31)和整形透镜(32)，所述凸透镜二(31)位于合光器(2)的右侧，并且凸透镜二(31)与左侧...

【技术特征摘要】
1.一种大功率多波段曝光光源，其特征在于：包括UV-LED阵列光源组件(1)、合光器(2)、整形器件组(3)、激光光源组件(4)和光学积分器(5)；
合光器(2)：所述合光器(2)的个数为两个，两个合光器(2)左右对应，并且两个合光器(2)呈45度角倾斜放置；
UV-LED阵列光源组件(1)：所述UV-LED阵列光源组件(1)的个数为三个，一个UV-LED阵列光源组件(1)位于合光器(2)的左侧，另两个UV-LED阵列光源组件(1)位于两个合光器(2)的正上方；
整形器件组(3)包括凸透镜二(31)和整形透镜(32)，所述凸透镜二(31)位于合光器(2)的右侧，并且凸透镜二(31)与左侧的UV-LED阵列光源组件(1)共轴；整形透镜(32)，可以是入射面为平面、出射面为锥形结构或者锥形凹槽，整形透镜(32)用以将圆形分布的光斑整形为环形分布的光斑；
激光光源组件(4)：所述激光光源组件(4)位于整形器件组(3)的右侧；
光学积分器(5)：所述光学积分器(5)位于激光光源组件(4)的右侧，且光学积分器(5)与凸透镜二(31)共轴；
其中：还包括曝光组件(6)，所述曝光组件(6)位于光学积分器(5)的右侧，曝光组件(6)与光学积分器(5)共轴。


2.根据权利要求1所述的一种大功率多波段曝光光源，其特征在于：所述UV-LED阵列光源组件(1)包括发出的光束的UV-LED阵列光源(11)，所述UV-LED阵列光源(11)的一侧依次设有凹凸透镜(12)、平凸透镜一(13)和凸透镜一(14)，由凹凸透镜(12)、平凸透镜一(13)和凸透镜一(14)对UV-LED阵列光源(11)发出的光整合为平行光。


3.根据权利要求1所述的一种大功率多波段曝光光源，其特征在于：所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张博，李康，王艳军，陈龙飞，刘琴，
申请(专利权)人：河南百合特种光学研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41