【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻设备，具体为一种提高光照均匀度的调节镜组及方法。
技术介绍
1、光学光刻是一种使用光将掩膜图案投影复制的技术。随着科学研究对微传感、微纳光电子等器件需求的日益提升，相较于传统光刻机，采用数字微振镜阵列（digitalmicro-mirror device，dmd）空间光调制器的数码化无掩膜光刻技术，用户可以对图样的设计获得更高的自由度，进而显著提升了光刻图形的复杂度。
2、目前，用于加工pcb板的光刻设备领域，广泛采用uv光的激光直接成像（ldi）光刻技术，相较于传统底片成像工艺，无掩膜光刻可减少工艺流程60%之多，得益于工艺中省去了制作照相底板等步骤，小批量的快件板公司明显受益于直接成像技术。
3、在光刻曝光领域，镜头的能量均匀性直接影响镜头的实际曝光能力，尤其在大面积曝光和复杂图形生成中，曝光边缘区域光照强度不足、图形清晰度下降，直接影响产品良率和工艺稳定性。在实际生产过程中，因为加工误差以及激光器本身出光问题，造成生产的镜头均匀度低于目标要求。直接导致生产良率降低，成本大幅增加。均匀性问题...
【技术保护点】
1.一种提高光照均匀度的调节方法，其特征在于：包括一种提高光照均匀度的调节镜组，该镜组包括第一透镜（9）、第二透镜（10）、镜筒（11）、光纤固定座（5）和三维调节机构，第一透镜（9）和第二透镜（10）分别设置在透镜镜座（1）内，透镜镜座（1）设置在镜筒（11）内，且两透镜的凸面相对设置，镜筒（11）的上端设置有光纤安装镜筒（3），光纤固定座（5）安装在光纤安装镜筒（3）内，三维调节机构设置在光纤安装镜筒（3）和光纤固定座（5）之间，三维调节机构包括旋紧螺母（4）、固定螺母（8）和球头六角调节器（2），固定螺母（8）设置在光纤安装镜筒（3）中，且光纤固定座（5）安装在...
【技术特征摘要】
1.一种提高光照均匀度的调节方法，其特征在于：包括一种提高光照均匀度的调节镜组，该镜组包括第一透镜（9）、第二透镜（10）、镜筒（11）、光纤固定座（5）和三维调节机构，第一透镜（9）和第二透镜（10）分别设置在透镜镜座（1）内，透镜镜座（1）设置在镜筒（11）内，且两透镜的凸面相对设置，镜筒（11）的上端设置有光纤安装镜筒（3），光纤固定座（5）安装在光纤安装镜筒（3）内，三维调节机构设置在光纤安装镜筒（3）和光纤固定座（5）之间，三维调节机构包括旋紧螺母（4）、固定螺母（8）和球头六角调节器（2），固定螺母（8）设置在光纤安装镜筒（3）中，且光纤固定座（5）安装在固定螺母（8）上，所述调节方法包括以下具体步骤：
2.根据权利要求1所述的一种提高光照均匀度的调节方法，其特征在于：透镜镜座（1）的圆周方向设置有竖向凸形槽（16），竖向凸形槽（16）的底部设置有限位卡槽（17），第一透镜（9）和第二透镜（10）的圆周方向设置有固定环（20），固定环（20）的圆周方向设置有连接筋（18），第一透镜（9）和第二透镜（10）通过连接筋（18）分别卡在透镜镜座（1）的竖向凸形槽（16）中，连接筋（18）的外端设置有橡胶块（19），橡胶块（19）旋转卡入限位卡槽（17）中。
3.根据权利要求1所述的一种提高光照均匀度的调节方法，其特征在于：透镜镜座（1）的内侧圆周方向设置有环形内凸台（15），第一透镜（9）和第二透镜（10）的底面分别粘贴在透镜镜座（1）的环形内凸台（15）上，第一透镜（9）和第二透镜（10）均为平凸透镜。
4.根据权利要求1所述的一种提高光照均匀度的调节方法，其特征在于：光纤安装镜筒（3）的下端设置有底板（21），固定...
【专利技术属性】
技术研发人员：张博，张品祥，何录伟，刘玉伟，
申请(专利权)人：河南百合特种光学研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。