镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法技术

本发明专利技术涉及一种镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法，其包括步骤：提供至少一表面涂有防电磁干扰涂层的待测镜座，该镜座具有两个待量测位置；将所述至少一待测镜座放置在一承载台的至少一收容槽中，所述收容槽与所述待测镜座相配合，以用于收容并固持所述待测镜座；将一电阻测量装置的两个探针分别抵持在所述待测镜座上的两个待量测位置以量测所述防电磁干扰涂层的电阻值；读取电阻测量装置量显示的电阻值数据。该镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法能够快速、准确的测量镜座表面防电磁干扰涂层的电阻值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种防电磁干扰涂层电阻值的测量方法，尤其涉及一种对镜头模组的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法。
技术介绍
随着摄像技术的发展，摄像装置在各种便携式电子装置(如手机、计算机等)中得到广泛的应用，得到众多消费者的青睐。镜头模组通常作为摄像装置的主要元件被应用于便携式电子装置的摄像装置中，其一般包括镜片、镜座、滤光片及影像感测器等。镜片的设计方法请参阅Chao等人在2000年IEEE系统、超声波会议(2000 IEEE Ultrasonics Symposium)上发表的论文Aspheric lens design。然而，随着便携式电子装置朝着功能多样化的方向发展，其元件也变得越来越复杂，且所述元件大多需通电才能工作，这导致所述便携式电子装置很容易因为电磁干扰而影响正常工作。为了降低所述电磁干扰的影响，一般还需在所述镜头模组的镜座表面涂上一层防电磁干扰(Electromagnetic Interference，EMI)涂层。当镜座的表面涂上防电磁干扰(EMI)涂层后，需要利用电阻计测量该涂层的电阻值是否达到要求来判断该镜座是否为良品。通常的做法是抽样并用人工方式操作电阻计的两个探针来接触镜座的两个端点以测量样品涂层的电阻值。由于便携式电子装置的镜头模组的尺寸较小、重量较轻，所以在测量过程中镜座极易在探针的作用力下发生偏转或移动，从而影响了测量的效率以及准确性。有鉴于此，有必要提供一种快速、准确的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法。
技术实现思路
下面将以具体实施例说明一种快速、准确的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法。一种镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法，其包括以下步骤：提供至少一表面涂有防电磁干扰涂层的待测镜座，该镜座具有两个待量测位置；将所述至少一待测镜座放置在一承载台的至少一收容槽中，所述收容槽与所述待测镜座相配合，以用于收容并固持所述待测镜座；将一电阻测量装置的两个探针分别抵持在所述待测镜座上的两个待量测位置以量测所述防电磁干扰涂层的电阻值；读取电阻测量装置量显示的电阻值数据。-->相对于现有技术，所述镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法是通过一设置有用于收容待测镜座的收容槽的承载台固定所述待测镜座，从而在利用电阻测量装置测量镜座表面防电磁干扰涂层电阻值的过程中，所述待测镜座在收容槽的固持作用下不会因为电阻测量装置探针的作用力而发生偏转或移动，从而提升了测量效率并确保测量的准确性。附图说明图1是本专利技术实施例的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法所提供的待测镜座的局部剖视图。图2是本专利技术实施例的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法所提供的承载台的结构示意图。图3是本专利技术实施例的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法中将待测镜座放置在承载台收容槽内的示意图。图4是本专利技术实施例的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法所提供的电阻测量装置的结构示意图。图5是本专利技术实施例的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法中采用电阻测量装置测量镜座表面防电磁干扰涂层电阻值的示意图。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术作进一步详细说明。本专利技术实施例提供的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法包括以下步骤。(a)提供至少一如图1所示的待测镜座10，该待测镜座10表面形成有防电磁干扰涂层20。本实施例中，所述待测镜座10包括一个用于收容光学元件的镜筒102以及位于镜筒102一端的镜筒前端104，所述防电磁干扰涂层20形成在所述镜筒102及镜筒前端104的外表面上。(b)参见图2及图3，将所述至少一待测镜座10放置在一承载台30的至少一收容槽302中，所述收容槽302与所述待测镜座10相配合，以用于收容并固持所述待测镜座10。本实施例中，所述收容槽302与待测镜座10的镜筒前端104的形状相同且尺寸相近，从而收容槽302可将该镜筒前端104收容在其内，并固持住待测镜座10。(c)参见图4及图5，将一电阻测量装置40的两个探针41、42分别抵持在所述待测镜座10的待量测位置以量测所述防电磁干扰涂层20的电阻值。本实施例中，所述镜筒前端104上具有两个待量测位置101、102，所述防电磁干扰涂层电阻值即是由该两个量测位置101、102处测量而得。所述电阻测量装置40可为摆针式或数字式三用电表。(d)读取电阻测量装置40显示的电阻值数据。-->需要说明的是，收容槽302的深度可大于、等于或小于所述镜筒前端104的厚度。优选的，该收容槽302的深度与所述镜筒前端104的厚度相同，从而可在不妨碍所述探针41、42抵持待量测位置101、102的前提下，对待测镜座10产生更好的固持作用。所述镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法通过一设置有用于收容待测镜座10的收容槽302的承载台30固定所述待测镜座10，从而在利用电阻测量装置40测量镜座10表面防电磁干扰涂层20的电阻值的过程中，所述待测镜座10在收容槽302的固持作用下不会因为电阻测量装置探针41、42的作用力而发生偏转或移动，从而提升了测量效率并确保测量的准确性。可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本专利技术的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本专利技术权利要求的保护范围。-->本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法，其包括以下步骤：　提供至少一表面涂有防电磁干扰涂层的待测镜座，该镜座具有两个待量测位置；　将所述至少一待测镜座放置在一承载台的至少一收容槽中，所述收容槽与所述待测镜座相配合，以用于收容并固持所述待测镜座；　将一电阻测量装置的两个探针分别抵持在所述待测镜座上的两个待量测位置以量测所述防电磁干扰涂层的电阻值；　读取电阻测量装置量显示的电阻值数据。

【技术特征摘要】
【权利要求1】一种镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法，其包括以下步骤
：
提供至少一表面涂有防电磁干扰涂层的待测镜座，该镜座具有两个待量测位置；
将所述至少一待测镜座放置在一承载台的至少一收容槽中，所述收容槽与所述待测镜
座相配合，以用于收容并固持所述待测镜座；
将一电阻测量装置的两个探针分别抵持在所述待测镜座上的两个待量测位置以量测所
述防电磁干扰涂层的电阻值；
读取电阻测量装置量显示的电阻值数据。
【权利要求2】如权利要求1所述的镜座表面防电磁干扰涂层电阻值测量方法，
其特征在于，所述至少一待测镜座包括一用于收容光学元件的镜筒以及位于该镜筒一端的...

【专利技术属性】
技术研发人员：董才士，陈汉邦，翁偟铭，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]