一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃及其制备方法，本发明专利技术利用涂层涂覆技术与磁控溅射技术在无机玻璃、聚碳酸酯或有机玻璃上制备多层薄膜结构，包括过渡层、介质层、保护层、导电层、保护层、减反层、耐磨层，使其具有低电阻和低光学损耗性能。与目前常见的氧化铟锡/银/氧化铟锡三明治结构相比，具有成本低、无毒、机械柔韧性好、化学稳定性好、薄膜附着力好、电阻低、透光性能好，并且适用于不耐高温基底材料等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃及其制备方法
本专利技术涉及一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃及其制备方法，尤其涉及具有多层薄膜叠加的低电阻和低光学损耗的玻璃及其制备方法。
技术介绍
具有低电阻和低光学损耗的多层膜结构被广泛应用于液晶显示器、太阳能电池、功能窗等领域。一般单层功能膜的电学性能与光学性能很难同时满足使用要求，需要将多层薄膜叠加起来组成复合结构来实现低电阻(5-8Ω/￡)、高透光率(>80％)、良好的化学稳定性等性能。目前本领域内常见的LOW-E玻璃采用氧化铟锡/银/氧化铟锡三明治结构，但是此结构存在一些弊端，例如氧化铟锡价格昂贵、机械柔韧性差，铟的资源稀缺且有一定毒性，中间夹层银膜容易被氧化、化学稳定性较差，此多层膜结构的附着力较差，容易脱落等。在电加温、电磁屏蔽等特殊功能的领域内，既要求薄膜结构具有低电阻、高透光、又要求高电磁屏蔽性能，几乎接近功能薄膜的光电性能匹配极限，为了达到使用性能指标要求，需要开发一种具有低电阻和低光学损耗的薄膜结构。单一薄膜很难满足综合使用性能要求，而多层薄膜结构中考虑到各层之间物理、化学性本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃，其特征在于：所述玻璃由在透明基底材料(1)上依次镀制的过渡层(2)、一个或多个叠加层、第二介质层(7)、减反层(8)、耐磨层(9)组成；/n所述叠加层由第一介质层(3)、第一保护层(4)、导电层(5)、第二保护层(6)依次镀制而成；/n其中，第一介质层(3)为厚度为50-120nm的AZO薄膜，第一保护层(4)为厚度为1-2.5nm的NiCr薄膜，导电层(5)为厚度为5-10nm的Au薄膜，第二保护层(6)为厚度为1-2.0nm的NiCr薄膜，第二介质层(7)为厚度为30-100nm的AZO薄膜，减反层(8)为厚度为15-30nm的Nb

【技术特征摘要】
1.一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃，其特征在于：所述玻璃由在透明基底材料(1)上依次镀制的过渡层(2)、一个或多个叠加层、第二介质层(7)、减反层(8)、耐磨层(9)组成；
所述叠加层由第一介质层(3)、第一保护层(4)、导电层(5)、第二保护层(6)依次镀制而成；
其中，第一介质层(3)为厚度为50-120nm的AZO薄膜，第一保护层(4)为厚度为1-2.5nm的NiCr薄膜，导电层(5)为厚度为5-10nm的Au薄膜，第二保护层(6)为厚度为1-2.0nm的NiCr薄膜，第二介质层(7)为厚度为30-100nm的AZO薄膜，减反层(8)为厚度为15-30nm的Nb2O5薄膜或SiO2薄膜，耐磨层(9)为厚度为50-200nm的C3N4薄膜或Si3N4薄膜；
所述叠加层与第二介质层(7)总厚度为90-300nm，其中第一介质层(3)与第一保护层(4)厚度之和大于第二保护层(6)与第二介质层(7)的厚度之和。


2.根据权利要求1所述的具有低电阻和低光学损耗的玻璃，其特征在于：所述AZO薄膜为Al2O3掺杂的ZnO薄膜，Al2O3掺杂比例为1％wt-2％wt。


3.根据权利要求1所述的具有低电阻和低光学损耗的玻璃，其特征在于：所述透明基底材料(1)为强化玻璃、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯；所述强化玻璃表面压应力为500-900MPa，厚度为1.5-3.0mm；所述聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯的厚度为5-25mm。


4.根据权利要求1所述的具有低电阻和低光学损耗的玻璃，其特征在于：所述过渡层(2)选择如下：
若透明基底材料(1)为强化玻璃，则过渡层(2)为SiO2或TiO2，厚度为10-20nm；
若透明基底材料(1)为聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯，则过渡层(2)为为丙烯酸、聚氨酯或者丙烯酸与聚氨酯的混合物。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：李佳明，姜良宝，李晓宇，颜悦，雷沛，潘兴浩，
申请(专利权)人：中国航发北京航空材料研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11