【技术实现步骤摘要】
一种便于钎焊焊接的靶材组件
本技术属于半导体
,涉及一种靶材组件,尤其涉及一种便于钎焊焊接的靶材组件。
技术介绍
磁控溅射是一种利用带电粒子轰击靶材,使靶材原子从表面逸出并均匀沉积在衬底上的基片镀膜工艺。磁控溅射以其溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、优异的金属镀膜均匀性和可控性等优势成为了优异的镀膜工艺,因而广泛地应用于集成电路制造工艺。靶材组件是由符合溅射性能的靶材和与所述靶材结合、具有一定强度的背板构成。背板可以在靶材组件装配置溅射机台中起到支撑作用,并具有传导热量的功效。靶材组件是通过将靶材和背板焊接在一起形成的,需要使其既可以可靠地安装在溅射机台上,同时又可以在磁场、电场作用下进行有效地磁控溅射。在靶材和背板的焊接工艺中,钎焊是一种利用熔点比母材熔点低的填充金属在低于母材熔点、高于钎料熔点的温度下同时加热母材和焊料,致使焊料熔化后,润湿、并填满母材连接的间隙,钎料与母材相互扩散形成牢固连接的焊接方法。磁控溅射过程中,采用钎焊制备的靶材组件,其钎焊层连接结构使靶材和背板连接界面具有良好的热传导 ...
【技术保护点】
1.一种便于钎焊焊接的靶材组件,其特征在于,所述便于钎焊焊接的靶材组件包括靶坯以及与靶坯组合的背板;/n所述背板的焊接面设置有第一凹槽与第二凹槽,第二凹槽环绕第一凹槽设置;分割第一凹槽与第二凹槽的侧壁形成卡榫结构;/n所述靶坯的焊接面设置有与卡榫结构相匹配的凹槽。/n
【技术特征摘要】
1.一种便于钎焊焊接的靶材组件,其特征在于,所述便于钎焊焊接的靶材组件包括靶坯以及与靶坯组合的背板;
所述背板的焊接面设置有第一凹槽与第二凹槽,第二凹槽环绕第一凹槽设置;分割第一凹槽与第二凹槽的侧壁形成卡榫结构;
所述靶坯的焊接面设置有与卡榫结构相匹配的凹槽。
2.根据权利要求1所述的便于钎焊焊接的靶材组件,其特征在于,所述分割第一凹槽与第二凹槽的侧壁的厚度相等。
3.根据权利要求1或2所述的便于钎焊焊接的靶材组件,其特征在于,所述分割第一凹槽与第二凹槽的侧壁的厚度为0.5-1mm。
4.根据权利要求1所述的便于钎焊焊接的靶材组件,其特征在于,所述第一凹槽的深度为3.2-3.9mm。
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【专利技术属性】
技术研发人员:姚力军,潘杰,边逸军,王学泽,李小萍,
申请(专利权)人:宁波江丰电子材料股份有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江;33
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