【技术实现步骤摘要】
一种多层内衬壁等离子体处理装置
本技术涉及真空等离子体处理装置
，尤其是涉及一种多层内衬壁等离子体处理装置。
技术介绍
真空等离子体处理装置，目前在半导体芯片加工，例如等离子体刻蚀，灰化，等离子体增强气象化学沉淀中广泛应用。等离子体处理腔体中的内衬壁是一种常见结构，如图1所示，包括真空腔壁1、内衬壁2、载物台4、隔离板3、进气口5和抽气口6，一般来说，内衬壁有两个作用，一是用于保护真空腔壁不被等离子腐蚀，二是容易拆卸清洗。在半导体加工过程中，因为等离子体的化学性质非常活泼，长期暴露在等离子体内会被腐蚀或者化学污染，造成化学环境改变，影响等离子体处理结果的稳定性，所以目前等离子体处理设备都用定期清洗或者更换内衬壁。由于更换过程中会破真空，造成设备机况改变，造成停机时间较长，设备运行时间大大降低。如何提高设备的利用率，是半导体加工行业非常重要的问题。因此，本申请提出了一种多层内衬壁的真空等离子体装置结构，可实现在不破真空的情况下，自行更换已经被等离子体腐蚀或者污染的内衬壁，大大提高等离子体处理腔体的...
【技术保护点】
1.一种多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，包括真空腔壁、安装于所述真空腔壁内侧壁上的多层内衬壁、固定于所述真空腔壁内的腔室中的载物台以及与所述载物台连接且水平地将腔室隔离为等立体产生腔室和真空腔室的隔离板，所述真空腔壁的顶部和底部分别设置进气口和抽气口，所述真空腔壁的底部安装有用于更换多层内衬壁的升降机构，所述升降机构连接至后台控制器。/n
【技术特征摘要】
1.一种多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，包括真空腔壁、安装于所述真空腔壁内侧壁上的多层内衬壁、固定于所述真空腔壁内的腔室中的载物台以及与所述载物台连接且水平地将腔室隔离为等立体产生腔室和真空腔室的隔离板，所述真空腔壁的顶部和底部分别设置进气口和抽气口，所述真空腔壁的底部安装有用于更换多层内衬壁的升降机构，所述升降机构连接至后台控制器。
2.根据权利要求1所述的多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，所述升降机构包括安装于所述真空腔壁上用于托载所述多层内衬壁的第一升降机构以及，安装于所述真空腔壁底部的用于更换所述多层内衬壁的第二升降机构。
3.根据权利要求2所述的多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，所述第一升降机构为伸缩泵，所述伸缩泵的伸缩泵轴贯穿所述真空腔壁并位...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭帆，杨平，
申请(专利权)人：上海稷以科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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