【技术实现步骤摘要】
一种镀膜机用烘烤装置
本技术涉及镀膜相关
,具体为一种镀膜机用烘烤装置。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。镀膜机在镀膜完成以后需要进行有效的烘烤,保证镀膜的效果,现有的烘干技术是利用手工夹持进行烘烤,但是距离以及烘烤的效率受到较大的影响,导致烘烤效果不佳。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种镀膜机用烘烤装置,以解决上述
技术介绍
中提到的镀膜机在镀膜完成以后需要进行有效的烘烤,保证镀膜的效果,现有的烘干技术是利用手工夹持进行烘烤,但是距离以及烘烤的效率受到较大 ...
【技术保护点】
1.一种镀膜机用烘烤装置,包括烘烤腔(1)与控制腔(2),其特征在于:所述控制腔(2)与所述烘烤腔(1)连接,所述控制腔(2)的顶部设置有控制电机(3),所述烘烤腔(1)内部侧壁与底部设置有加热板(4),所述控制电机(3)底部设置有旋转杆(5),所述旋转杆(5)的顶部与所述控制电机(3)的输出轴连接,所述旋转杆(5)的底部设置有固定板(6)。/n
【技术特征摘要】
1.一种镀膜机用烘烤装置,包括烘烤腔(1)与控制腔(2),其特征在于:所述控制腔(2)与所述烘烤腔(1)连接,所述控制腔(2)的顶部设置有控制电机(3),所述烘烤腔(1)内部侧壁与底部设置有加热板(4),所述控制电机(3)底部设置有旋转杆(5),所述旋转杆(5)的顶部与所述控制电机(3)的输出轴连接,所述旋转杆(5)的底部设置有固定板(6)。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜机用烘烤装置,其特征在于:所述控制腔(2)分为伸缩控制箱(8)与加热腔(9),所述伸缩控制箱(8)内设置有伸缩电机,所述加热腔(9)内设置有加热箱,所述加热箱与所述加热板(4)之间管道连接,所述加热箱数量为两个,所述加热箱之间设置有伸缩杆,所述伸缩杆的一端与所述伸缩电机输出轴连接,所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:骆海伟,
申请(专利权)人:东莞市伟信真空服务有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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