【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】装饰元件的制造方法及装饰元件
本申请要求2018年8月31日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2018-0103960的优先权和权益,该专利申请的全部内容通过引用并入本文中。本公开涉及一种装饰元件的制造方法及装饰元件。
技术介绍
为了提升产品价值,需要在外观设计(颜色、形状等)中反映各种客户意见并增强产品的原功能。对于诸如化妆品铭牌或移动电话外壳的各种产品,通过附着能够获得各种颜色和纹理的装饰膜来装饰外观。通过图案层、颜色层、反射层、彩色膜和印刷层的颜色来控制装饰膜的设计因素(颜色、色感、纹理等)。为了在移动电话外壳中使用这种装饰膜,电磁波的发射/接收需要不被干扰。这样的条件不仅限制了颜色层的制造工艺条件,而且还导致减少了每种材料可获得的颜色的数量的问题。可以通过薄膜的电阻来确定电磁波发射/接收的屏蔽,低电阻干扰发射/接收,高电阻不干扰发射/接收。现有技术文献专利文献日本专利申请公开No.2007-144988
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种装饰元件的制造方法,所述制造方法包括:/n在光吸收层的一个表面上沉积具有彼此间隔开的两个以上的岛部的结构的光反射层;以及/n使用所述岛部作为掩模对所述光吸收层进行干法蚀刻,/n其中,与对所述光吸收层进行所述干法蚀刻之前相比,在对所述光吸收层进行所述干法蚀刻之后所述装饰元件的电阻值增大了两倍以上。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180831 KR 10-2018-01039601.一种装饰元件的制造方法,所述制造方法包括:
在光吸收层的一个表面上沉积具有彼此间隔开的两个以上的岛部的结构的光反射层;以及
使用所述岛部作为掩模对所述光吸收层进行干法蚀刻,
其中,与对所述光吸收层进行所述干法蚀刻之前相比,在对所述光吸收层进行所述干法蚀刻之后所述装饰元件的电阻值增大了两倍以上。
2.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法,其中,所述岛部的宽度为10nm至1000nm,所述岛部的高度为5nm至1000nm。
3.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法,其中,所述岛部具有800000nm2以下的水平横截面。
4.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法,其中,所述岛部具有800000nm2以下的垂直横截面。
5.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法,其中,所述光反射层包含铟(In)。
6.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法,其中,在10℃至100℃的温度条件下进行所述光反射层的所述沉积。
7.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法,其中,所述光反射层的所述沉积使用蒸发法或溅射法。
8.根据权利要求7所述的装饰元件的制造方法,其中,在所述溅射法中,所述光吸收层与溅射靶之间的最短距离(d1)为200mm以下,并且在每单位面积的所述溅射靶上施加0.1W/cm2至10W/cm2的电力条件下施加电力10秒至1000秒。
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【专利技术属性】
技术研发人员:曹弼盛,金容赞,章盛晧,金起焕,许南瑟雅,孙政佑,
申请(专利权)人:株式会社LG化学,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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