【技术实现步骤摘要】
一种高效率的碳化硅长晶方法及装置
本申请涉及一种高效率的碳化硅长晶方法及装置,属于晶体制备领域。
技术介绍
碳化硅晶体是目前碳化硅应用的最新技术产品,是继第一代半导体材料和第二代半导体材料砷化镓后发展起来的第三代半导体材料,与硅和砷化镓为代表的传统半导体材料相比,其具有宽带隙、高临界击穿电场、高热导率、低介电常数、高载流子饱和浓度等特点,可应用在航空、航天探测,核能探测及开发,卫星、汽车发动机等高温及抗辐射领域。但无论是哪种碳化硅晶体的制备方法,都存在长晶速度慢、产能小等问题,使得碳化硅晶片的价格极其昂贵,因此如何提高碳化硅晶体的生产效率是降低生产成本的关键。目前,碳化硅晶体最成熟的制备方法是物理气相传输(PVT)法,即在真空或惰性气体气氛保护的坩埚中,在一定的温度和压力下,固态原料碳化硅粉发生分解升华,从温度相对较高的生长原料区向温度相对较低的生长界面区运动,并在碳化硅籽晶上沉积结晶生成碳化硅晶体。PVT法生长碳化硅晶体需要建立一个合适的温场,从而确保从高温到低温形成稳定的气相碳化硅输运流,并确保气相碳化硅能够在籽晶上成核生长。现有的碳化硅长晶装置由于结构的限制,坩埚一次只能放置一个碳化硅籽晶,因此单炉次只能产出一块碳化硅晶体。如何提高单炉次的产出量是提高生产效率、降低生产成本的关键。
技术实现思路
为了解决上述问题,本申请提出了一种高效率的碳化硅长晶方法,该碳化硅长晶方法在单炉次可产出两块晶体,提高了生产效率,节约了生产成本。根据本申请的一个方面,提供了一种高效率的碳化硅长晶方 ...
【技术保护点】
1.一种高效率的碳化硅长晶方法,其特征在于,包括如下步骤:/n1)提供坩埚、籽晶托以及驱动籽晶托翻转的驱动机构;/n2)将长晶原料放入坩埚底部的原料区,将第一籽晶和第二籽晶分别固定在籽晶托的两个面上,并将籽晶托安装在坩埚顶部的长晶区,使第一籽晶的长晶面朝向原料区,组装后放入内部安装保温层的炉体内,在坩埚的顶部与保温层之间设置产品区;/n3)升高长晶炉的温度,使得长晶原料升华分解后的升华气体沿坩埚的轴向气相传输至第一籽晶的长晶面,进行长晶,制得第一碳化硅晶体,通过驱动机构驱动籽晶托旋转,使第一碳化硅晶体至产品区,使第二籽晶的长晶面朝向原料区,继续长晶,制得第二碳化硅晶体。/n
【技术特征摘要】
1.一种高效率的碳化硅长晶方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)提供坩埚、籽晶托以及驱动籽晶托翻转的驱动机构;
2)将长晶原料放入坩埚底部的原料区,将第一籽晶和第二籽晶分别固定在籽晶托的两个面上,并将籽晶托安装在坩埚顶部的长晶区,使第一籽晶的长晶面朝向原料区,组装后放入内部安装保温层的炉体内,在坩埚的顶部与保温层之间设置产品区;
3)升高长晶炉的温度,使得长晶原料升华分解后的升华气体沿坩埚的轴向气相传输至第一籽晶的长晶面,进行长晶,制得第一碳化硅晶体,通过驱动机构驱动籽晶托旋转,使第一碳化硅晶体至产品区,使第二籽晶的长晶面朝向原料区,继续长晶,制得第二碳化硅晶体。
2.根据权利要求1所述的高效率的碳化硅长晶方法,其特征在于,步骤3)具体包括如下步骤:
a)除杂:在压力不高于10-5Pa和温度不低于1000℃的条件下,充入惰性气体保持至少1h,气体压力不低于3万Pa;
b)长晶:降低气体压力不高于10000Pa,升温至2000-2300℃,持续通入惰性气体,气体压力不高于10000Pa保持不低于40h,在第一籽晶的长晶面上进行长晶,制得第一碳化硅晶体,旋转籽晶托,使第一碳化硅晶体至产品区,使第二籽晶的长晶面朝向原料区,继续长晶,制得第二碳化硅晶体;
优选的,步骤3)具体包括如下步骤:
a)除杂:用1h将炉腔内的压力抽到10-5Pa,再1h将炉温升到1400-1600℃,通入Ar气,压力是10-5Pa在此温度上保持2h;
b)长晶:用2h将压力降为0-10000Pa,炉温升到2000-2200℃,后进入长晶阶段,该阶段持续50-200h,持续通入Ar气,长晶原料升华至第一籽晶的长晶面长晶,在到达预设的生长时间后,驱动装置驱动籽晶托旋转180°,制得的第一碳化硅晶体旋转出坩埚,第二籽晶的长晶面旋转进坩埚内,长晶原料继续升华至第二籽晶的长晶面上长晶,生长阶段结束。
3.根据权利要求1所述的高效率的碳化硅长晶方法,其特征在于,在所述籽晶托的中间设有圆柱形空腔,在所述圆柱形空腔内固...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘星,柏文文,张亮,邱兴鲁,李鹏,徐伟强,
申请(专利权)人:山东天岳先进材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:山东;37
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。