【技术实现步骤摘要】
一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺
本专利技术涉及菲林模具制备
，尤其涉及一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺。
技术介绍
现有技术主要采用先将单模纹理转印于PC板上，然后采用CNC技术将部分区域的纹理或多种纹理单独的铣出来，再根据纹理拼接排版图进行装配，再将装配好的纹理模具完整的转印至PC板上。现有技术具有以下的缺陷：1.采用CNC技术铣出来的单模纹理公差较大。2.在铣单模纹理时，易造成损伤（如异色、脏污、划伤等不良）。3.CNC铣单模纹理时，边缘区域易出现崩边造成纹理缺失。4.CNC铣出来的单模纹理和边框在装配后，接缝处分膜困难，易出现积胶和气泡等问题。
技术实现思路
本专利技术的目在于提供一种能够实现微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺。为实现上述的目的，本专利技术采用以下的技术方案：一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，包括以下步骤：S1、将感光材料涂覆于基板上，并通过预烤、曝光、显影，制得纹理模具及玻璃靶...
【技术保护点】
1.一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、将感光材料涂覆于基板上，并通过预烤、曝光、显影 ，制得纹理模具及玻璃靶标模具C；/nS2、将纹理模具C上的纹理进行转印，在其纹理面施加UV胶水，在UV胶水上覆盖PET膜片，并通过压印、UV预固化后，将纹理模具C与PET膜片分离，使纹理转印至PET膜片上，制得纹理膜片A；/nS3、将涂布有感光材料的PET基材置于光绘机中，根据所需图案对PET基材表面的感光涂层进行扫描，然后将已光刻的PET基材经过显影、定影、清洗以及干燥处理后，制得具有纹理外形的菲林片B；/nS4、将纹理膜片A和菲林片B贴合，...
【技术特征摘要】
1.一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1、将感光材料涂覆于基板上，并通过预烤、曝光、显影，制得纹理模具及玻璃靶标模具C；
S2、将纹理模具C上的纹理进行转印，在其纹理面施加UV胶水，在UV胶水上覆盖PET膜片，并通过压印、UV预固化后，将纹理模具C与PET膜片分离，使纹理转印至PET膜片上，制得纹理膜片A；
S3、将涂布有感光材料的PET基材置于光绘机中，根据所需图案对PET基材表面的感光涂层进行扫描，然后将已光刻的PET基材经过显影、定影、清洗以及干燥处理后，制得具有纹理外形的菲林片B；
S4、将纹理膜片A和菲林片B贴合，制得菲林母模D；
S5、将玻璃靶标模具C固定于UV转印机台作业平台上，将PC板置于作业面置于玻璃靶标模具C上面，将靶标纹理转印至PC板上，制得PC纹理靶标E；
S6、根据PC纹理靶标E的标靶位置将除第一模外的其它多模位置贴上保护膜，并将贴合保护膜的PC纹理靶标E置于机台作业平台上，将机台上平台的菲林母模D的纹理转印到PC纹理靶标E的第一模的位置；
S7、PC纹理靶标E的已转印有纹理的第一模位置贴覆保护膜，并将未覆盖区域的胶水清楚，撕掉第二模的保护膜；
S8、操作机台使上平台的菲林母模D的纹理转印到PC纹理靶标E上的第二模位置；
S9、重复步骤S7-S8，直到所有的排板完成，制得PC纹理模具E1。
2.根据权利要求1所述的一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于，步骤S1将感光材料涂覆于基板上，并通过预烤、曝光、显影，制得纹理模具及玻璃靶标模具C，包括：通过涂布工艺将感光性树脂光阻覆盖在基板上，并进行预烤100-300s，预烤温度为100-150℃，然后通过曝光显影将微纳米级纹理制作在基板上，0mW<曝光能量≤200mW，UV灯波长为365-425nm，显影液采用TMAH溶液，显影液电导率为10-60us/cm、温度为23±2℃，显影时间为20-240s，并经纯水洗、吹干、烘烤固化，烘烤时间为1-2h，烘烤温度为100-150℃，制得纹理模具及玻璃靶标模具C。
3.根据权利要求1所述的一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于：S2中UV转印的滚轮压力0.2-0.6MPa、走速为0.1-2mm/sec、固化能量为400-800mJ/cm2。
4.根据权利要求3所述的一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于：步骤S2之后还包括UV固化机对S2中的纹...
【专利技术属性】
技术研发人员：余雅，黄宇正，陈德全，王钰，钟均胜，
申请(专利权)人：伯恩创盛技术研发惠州有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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