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本发明公开了一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模版的制备工艺，采用菲林片遮挡、UV局部曝光的方式实现微纳米无缝拼接，通过CCD抓取上下平台靶标定位，设定不同的行距和列距实现多模排版，可使单膜拼接成多膜，从而解决了纹理母模开发周期长，开发成本高，且...
该专利属于伯恩创盛技术研发(惠州)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过伯恩创盛技术研发(惠州)有限公司授权不得商用。

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