【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和基准图案的空间宽度的关系的校正线的方法和装置以及计算机可读记录介质
本专利技术涉及一种在基于设计数据而制造出的构成半导体集成电路(LSI)、液晶面板的图案的边缘检测中使用的技术，特别涉及一种生成校正线的方法和装置，所述校正线表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系。
技术介绍
专利文献1提出了对转印于晶片的图案与根据设计数据制作出的基准图案进行比较，测量图案形状或者检测图案缺陷的方法。基准图案是用线段或者曲线来表现的，与检查对象图像(晶片图案)进行比较。针对基准图案，对照晶片图案而预先一律施加放大·缩小、线宽补偿，在进行与晶片图案的匹配、边缘检测时，附加圆角部。该方法被称为管芯对数据库检查，并且已经实现。管芯对数据库检查基于基准图案的边缘来搜索晶片图案的边缘，所以，所测定的晶片图案与基准图案没有大的差异这点很重要。但是，实际上，有时受到由光刻、干法蚀刻等工艺造成的影响而晶片图案的边缘相对于基准图案的边缘大幅地偏离...
【技术保护点】
1.一种生成校正线的方法，所述校正线表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系，所述方法的特征在于，/n制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图，/n获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对应的晶片图案的图像，/n计算所述图像上的所述晶片图案的边缘与对应的基准图案的边缘的偏离量，/n将根据所述多个空间宽度与所述偏离量而确定的多个数据点标绘在坐标系上，/n根据所述坐标系上的所述多个数据点而生成所述校正线。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180330 JP 2018-0664051.一种生成校正线的方法，所述校正线表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系，所述方法的特征在于，
制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图，
获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对应的晶片图案的图像，
计算所述图像上的所述晶片图案的边缘与对应的基准图案的边缘的偏离量，
将根据所述多个空间宽度与所述偏离量而确定的多个数据点标绘在坐标系上，
根据所述坐标系上的所述多个数据点而生成所述校正线。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
所述多个数据点是多个临时数据点，
所述方法还包括如下工序：
将新数据点标绘在所述坐标系上，
根据所述坐标系上的所述多个临时数据点和所述新数据点来更新所述校正线。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，
将所述新数据点标绘在所述坐标系上的工序包括如下工序：
获取与在所述出现频率图中示出的至少1个追加的空间宽度对应的追加的晶片图案的图像，
使用所述校正线来校正与所述追加的晶片图案对应的基准图案的边缘的位置，
基于校正了所述边缘的位置的所述基准图案，检测所述图像上的所述追加的晶片图案的边缘，
计算所检测到的所述边缘与校正之前的所述基准图案的边缘的偏离量，
将根据所述追加的空间宽度与所检测到的...
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