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生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和基准图案的空间宽度的关系的校正线的方法和装置以及计算机可读记录介质制造方法及图纸
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下载生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和基准图案的空间宽度的关系的校正线的方法和装置以及计算机可读记录介质的技术资料
文档序号:26309129
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本方法是一种生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系的校正线的方法,包括如下工序:制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图,获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对...
该专利属于塔斯米特株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过塔斯米特株式会社授权不得商用。
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