一种光刻修复方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供了一种光刻修复方法及装置，该光刻修复方法包括：提供一待刻蚀的基板，基板表面依次形成有待刻蚀层和光刻胶层，光刻胶层包括缺陷区域；采用修复激光对光刻胶层的缺陷区域进行修复处理，修复处理包括减薄处理和/或清除处理；根据修复处理后的光刻胶层，对待刻蚀层进行刻蚀。本发明专利技术实施例所提供的一种光刻修复方法及装置，能够将PR胶类引起的刻蚀性不良转换成为可维修不良，降低维修风险系数，提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻修复方法及装置
本专利技术实施例涉及显示面板刻蚀修复
，尤其涉及一种光刻修复方法及装置。
技术介绍
在显示行业中，液晶显示面板(LiquidCrystalDisplay的简称LCD)和有机发光半导体显示面板(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)的电路需要使用光刻胶曝光间接实现。现有技术中，对曝光刻蚀后的瑕疵均是在光刻胶剥离后进行。由于在光刻胶剥离后，会在剥离后的基板上设置相应的电路结构，从而使得刻蚀造成的瑕疵难以进行修复，或者在修复刻蚀瑕疵时，容易对电路造成损害，导致产品不良。
技术实现思路
本专利技术实施例提供的一种光刻修复方法及装置，目的在于降低由光刻胶引起的刻蚀性不良修复风险，降低不良的修复难度，提高良品率。为达此目的，第一方面，本专利技术实施例提供了一种光刻修复方法，该光刻修复方法包括：提供一待刻蚀的基板，所述基板表面依次形成有待刻蚀层和光刻胶层，所述光刻胶层包括缺陷区域。采用修复激光对所述光刻胶层的缺陷区域进行修复处理，所述修复处本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻修复方法，其特征在于，包括：/n提供一待刻蚀的基板，所述基板表面依次形成有待刻蚀层和光刻胶层，所述光刻胶层包括缺陷区域；/n采用修复激光对所述光刻胶层的缺陷区域进行修复处理，所述修复处理包括减薄处理和/或清除处理；/n根据修复处理后的所述光刻胶层，对所述待刻蚀层进行刻蚀。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻修复方法，其特征在于，包括：
提供一待刻蚀的基板，所述基板表面依次形成有待刻蚀层和光刻胶层，所述光刻胶层包括缺陷区域；
采用修复激光对所述光刻胶层的缺陷区域进行修复处理，所述修复处理包括减薄处理和/或清除处理；
根据修复处理后的所述光刻胶层，对所述待刻蚀层进行刻蚀。


2.根据权利要求1所述的光刻修复方法，其特征在于，所述缺陷区域包括待减薄区域和/或待清除区域，所述修复激光包括纳秒激光和/或飞秒激光；
所述采用修复激光对所述光刻胶层的缺陷区域进行修复处理，包括下列方式的任意一种或其组合：
采用纳秒激光对所述光刻胶层的所述待减薄区域进行减薄处理；
采用纳秒激光和/或飞秒激光对所述光刻胶层的所述待清除区域进行清除处理。


3.根据权利要求1所述的光刻修复方法，其特征在于，所述光刻胶层为曝光显影后的光刻胶掩膜图案；
所述采用修复激光对所述光刻胶层的缺陷区域进行修复处理，包括：
采用修复激光对所述光刻胶掩膜图案的缺陷区域进行修复处理；
所述根据修复处理后的所述光刻胶层，对所述待刻蚀层进行刻蚀，包括：
根据修复处理后的所述光刻胶掩膜图案，对所述待刻蚀层进行刻蚀。


4.根据权利要求1所述的光刻修复方法，其特征在于，所述根据修复处理后的所述光刻胶层，对所述待刻蚀层进...

【专利技术属性】
技术研发人员：王天一，董岱，张敬禹，杨军，
申请(专利权)人：苏州科韵激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32