【技术实现步骤摘要】
贮藏器、基板处理装置以及贮藏器的使用方法
本公开涉及一种贮藏器、基板处理装置以及贮藏器的使用方法。
技术介绍
在专利文献1中公开有一种使被处理体旋转而对被处理体进行处理的抗蚀剂处理装置。该抗蚀剂处理装置具备向被处理体的被处理面供给用于处理的抗蚀剂或显影液的部件以及检测用于处理的抗蚀剂或显影液的收纳容器(贮藏器)的余量的部件。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平1-220827号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题存在使用具有易于发泡的性质的化学溶液作为抗蚀剂或显影液等处理液的情况。本公开提供一种能够防止向作为被处理体的基板供给含有泡的处理液的贮藏器、基板处理装置以及贮藏器的使用方法。用于解决问题的方案本公开的一方面的贮藏器具备：容器部，其具有上壁、侧壁以及底壁，在内部收容处理液；液体喷出路径，其具有设置在比收容于容器部内的处理液的液面高的位置的液体喷出口，能够向容器部内喷出处理液；以及气体喷出路径，其具有设置在比液面高的位置的气体喷出口，能...
【技术保护点】
1.一种贮藏器，其特征在于，/n该贮藏器具备：/n容器部，其具有上壁、侧壁以及底壁，在内部收容处理液；/n液体喷出路径，其具有设置在比收容于所述容器部内的所述处理液的液面高的位置的液体喷出口，能够向所述容器部内喷出所述处理液；以及/n气体喷出路径，其具有设置在比所述液面高的位置的气体喷出口，能够向所述容器部内喷出气体，/n所述液体喷出路径能够以使所述处理液碰到所述侧壁的内表面中的比所述液面靠上方的部分的方式从所述液体喷出口喷出所述处理液，/n所述气体喷出路径能够以使所述气体碰到所述容器部的内表面中的比所述液面靠上方的部分的方式从所述气体喷出口喷出所述气体。/n
【技术特征摘要】
20190510 JP 2019-0898501.一种贮藏器，其特征在于，
该贮藏器具备：
容器部，其具有上壁、侧壁以及底壁，在内部收容处理液；
液体喷出路径，其具有设置在比收容于所述容器部内的所述处理液的液面高的位置的液体喷出口，能够向所述容器部内喷出所述处理液；以及
气体喷出路径，其具有设置在比所述液面高的位置的气体喷出口，能够向所述容器部内喷出气体，
所述液体喷出路径能够以使所述处理液碰到所述侧壁的内表面中的比所述液面靠上方的部分的方式从所述液体喷出口喷出所述处理液，
所述气体喷出路径能够以使所述气体碰到所述容器部的内表面中的比所述液面靠上方的部分的方式从所述气体喷出口喷出所述气体。
2.根据权利要求1所述的贮藏器，其特征在于，
所述液体喷出路径的包括所述液体喷出口的端部的延伸方向相对于铅垂方向倾斜。
3.根据权利要求1所述的贮藏器，其特征在于，
在与铅垂方向交叉的平面中，所述侧壁的内表面的截面是圆形状，
从铅垂方向观察时，沿着所述液体喷出路径的包括所述液体喷出口的端部的延伸方向延伸的假想线、以及沿着所述气体喷出路径的包括所述气体喷出口的端部的延伸方向延伸的假想线这两者不与所述侧壁的内表面正交。
4.根据权利要求3所述的贮藏器，其特征在于，
从铅垂方向观察时，所述液体喷出口和所述气体喷出口隔着所述容器部内的中心彼此相对。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的贮藏器，其特征在于，
该贮藏器还具备用于分别检测所述液面的高度达到预定位置的情况的多个液面检测部，
所述多个液面检测部各自检测的所述预定位置比所述液体喷出口、所述气体喷出口、从所述液体喷出口喷出的所述处理液碰到所述侧壁的位置、以及从所述气体喷出口喷出的所述气体碰到所述容器部的位置低。
6.根据权利要求1或2所述的贮藏器，其特征在于，
所述侧壁的内表面中的位于比所述液体喷出口靠下方的位置的至少一部分以使所述处理液顺着所述侧壁的内表面流动的方式相对于铅垂方向倾斜。
7.根据权利要求1或2所述的贮藏器，其特征在于，
所述液体喷出路径具有：喷出部，其包括所述液体喷出口；和送出部，其将所述处理液输送到所述喷出部，
所述喷出部的流路截面积比所述送出部的流路截面积大。
8.一种基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置具备：
液供给部，其具有暂时积存用于基板处理的处理液的贮藏器；以及
喷嘴，其朝向处理对象的基板喷出从所述液供给部供给的所述处理液，
所述贮藏器包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：牟田友彦，柴田大树，甲斐亚希子，绪方诚，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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