【技术实现步骤摘要】
一种硅片缺陷检测装置
本技术涉及硅片生产领域,具体而言涉及一种缺陷检测装置。
技术介绍
随着半导体特征尺寸的不断减小,半导体行业对于小型硅片的表面缺陷要求越来越高;半导体行业不仅对硅片正面的缺陷要求越来越高,而且对硅片背面缺陷和边缘缺陷的要求也越来越苛刻。这些缺陷例如包括污点、刮痕以及硅片边缘的缺口等,这些缺陷通常由人为通过检测装置发现;而且现有技术中还没有一些专用的设备对硅片表面的缺陷进行检测,及时检测都需要人工的干预或者对人工的要求比较高,不利于长期的使用。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种硅片缺陷检测装置,本技术结构简单,紧凑,在对硅片进行检测之前可以实现对硅片位置的固定及限位,提高标注化,对操作人员的要求较低同时还能够提高检测的准确性。一种硅片缺陷检测装置,包括固定在地面上的底座,底座上配合设置有主框架,主框架的四周配合设置有挡板;所述主框架包括上层工作部和下层工作部,下层工作部密封设置;上层工作部分别配合设置有进口和出口,所述上层工作部的进口和出口处设置有输送装置;r>所述上层工作部的本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种硅片缺陷检测装置,包括固定在地面上的底座,底座上配合设置有主框架,主框架的四周配合设置有挡板;/n其特征在于,所述主框架包括上层工作部和下层工作部,下层工作部密封设置;/n上层工作部分别配合设置有进口和出口,所述上层工作部的进口和出口处设置有输送装置;/n所述上层工作部的内部配合设置有检测机构,所述检测机构对应输送装置的中心位置设置;/n所述输送装置位于进口处配合设置有限位装置;/n所述输送装置的中心位置处还配合设置有定位装置;/n所述输送装置还配合设置有用于固定硅片的托盘组件。/n
【技术特征摘要】
1.一种硅片缺陷检测装置,包括固定在地面上的底座,底座上配合设置有主框架,主框架的四周配合设置有挡板;
其特征在于,所述主框架包括上层工作部和下层工作部,下层工作部密封设置;
上层工作部分别配合设置有进口和出口,所述上层工作部的进口和出口处设置有输送装置;
所述上层工作部的内部配合设置有检测机构,所述检测机构对应输送装置的中心位置设置;
所述输送装置位于进口处配合设置有限位装置;
所述输送装置的中心位置处还配合设置有定位装置;
所述输送装置还配合设置有用于固定硅片的托盘组件。
2.根据权利要求1所述的一种硅片缺陷检测装置,其特征在于:所述输送装置为皮带输送机构,输送装置自上侧工作部的进口处一直延伸到上侧工作部的出口处。
3.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐爱阳,
申请(专利权)人:扬州荣兴达光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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