【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种利用光学手段测量材料的非线性性质的测量装置，具 体涉及一种基于反射4f相位相干成像技术测量介质界面反射光学非线性性质 以及薄膜光学非线性性质的装置，属于非线性光子学材料和非线性光学信息 处理领域。
技术介绍
随着光通信和光信息处理等领域技术的飞速发展，非线性光学材料的研究 日益重要。光学逻辑、光学记忆、光三极管、光开关和相位复共轭等功能的 实现主要依赖于非线性光学材料的研究进展。光学非线性测量技术是研究非 线性光学材料的关键技术之一。对于透过率较髙的介质，常用的测量方法有Z扫描、4f系统相干成像技 术、马赫-曾德干涉法、四波混频、三次谐波非线性干涉法、椭圆偏振法等。 其中Z扫描方法光路简单、灵敏度高，是目前最常用的单光束测量材料光学 非线性的方法。但是这种测量方法需要样品在激光传播方向的移动，需要激 光多次激发，对薄膜和易损伤的材料不适用。4f相位相干成像系统(G. Boudebs and S. Cherukulappurath， "Nonlinear optical measurements using a 4f coherent imaging...
【技术保护点】
一种测量光学非线性的４ｆ相位相干成像装置，主要由入射光路、测量光路和参考光路构成，所述入射光路包括扩束系统、相位光阑和分束镜，入射激光束由分束镜（４）分成两束，一束为探测光进入测量光路，通过４ｆ系统后由ＣＣＤ相机（１３）采集；另一束为参考光，进入参考光路，其特征在于：所述测量光路的４ｆ系统为反射４ｆ相位相干成像系统，待测样品（６）以反射位放置在第一凸透镜（５）的焦平面上，反射光经第二凸透镜（７）照射在ＣＣＤ相机（１３）上；参考光路与测量光路的出射光照射在同一个ＣＣＤ相机（１３）上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：宋瑛林，杨俊义，李云波，顾济华，王玉晓，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]
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